Gebraucht DNS / DAINIPPON SDW-636-CV #9068905 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SDW-636-CV ist eine Photoresist-Ausrüstung für den Einsatz in fortgeschrittenen Photolithographie-Anwendungen. Es ist eine Lösung von hochauflösenden, schnell trocknenden Photoresists in einem Lösungsmittel. Es erzeugt hochauflösende und überlegene Profileigenschaften mit ausgezeichneter Haftung auf Substraten. Das System hat eine hohe Photospeed und geringe Absorption, was es ideal für weniger zeitaufwändige Musterung macht. Die Einheit besteht aus einem lichtempfindlichen Polymer, das bei Belichtung zum Ätzen eines Musters auf dem Substrat wirkt. Die Maschine hat zwei Komponenten: eine Photolacklösung und eine Entwicklerlösung. Die Photolacklösung wird mit einem Lösungsmittel vermischt und anschließend auf ein Substrat aufgebracht. Die gebrauchsfertige Photolacklösung wird entweder mittels Spin oder Sprühbeschichtung auf das Substrat aufgebracht. Über dem Substrat wird eine Maske verwendet, um das Substrat in Abhängigkeit vom zu ätzenden Muster auf dem Substrat vor Lichteinwirkung zu schützen. Nach der Beschichtung wird das Substrat mit hoher Intensität wie von einer Quecksilberbogenlampe belichtet. Das Licht veranlaßt den Photolack zu polymerisieren, wo dem Licht ausgesetzt, und dies wirkt, um eine Ätzmaske zu bilden. Anschließend wird die Entwicklerlösung auf das Substrat aufgebracht, um den während des Belichtungsprozesses transparenten Photolack zu entfernen, der ein geätztes Muster hinterlässt. Der Vorteil dieses lösemittelbasierten Werkzeugs ist die Fähigkeit, komplexe Formen in einem Schritt zu ätzen. Die Adhäsionseigenschaften der chemisch gegossenen Dupont DNS- SDW-636-CV sind überlegen und eignen sich somit für das Ätzen kleiner Merkmale in stark eingeschränkten oder mobilen Substraten. Die Anlage eignet sich für verschiedene Materialien, die mit den Photoresist- und Entwicklerlösungen wie Glas, Siliziumscheiben, Aluminiumoxid und Quarz kompatibel sind. DAINIPPON SDW-636-CV bietet eine hervorragende Prozesssteuerung, die eine Reproduzierbarkeit von Mustern über Substrate mit den gleichen Belichtungsparametern ermöglicht. Dies macht es ideal für funktionsempfindliche Branchen wie die Herstellung integrierter Schaltungen. Abschließend ist SDW-636-CV eine zuverlässige und vielseitige Lösung für fortschrittliche Photolithographie-Anwendungen. Es hat ausgezeichnete Hafteigenschaften auf Substraten und bietet überlegene Auflösung und Profileigenschaften. Das Modell ist ideal für zeitempfindliche Anwendungen sowie für funktionsempfindliche Branchen.