Gebraucht DNS / DAINIPPON SDW-636-CV #9144968 zu verkaufen

DNS / DAINIPPON SDW-636-CV
ID: 9144968
Wafergröße: 5",6"
Developers, 5" and 6".
DNS/DAINIPPON SDW-636-CV ist eine hochmoderne Photoresist-Anlage für den Einsatz in Photolithographieanwendungen. Dieses System nutzt Echtzeit-Prozessoptimierung oder RTPO, um eine genaue und wiederholbare Steuerung des Photolithographie-Prozesses zu ermöglichen. Darüber hinaus verfügt DNS SDW-636-CV über eine Vielzahl fortschrittlicher Funktionen, darunter eine Waferstufe mit höherer Auflösung, eine schnellere Verbindungsgeschwindigkeit und eine verbesserte Benutzeroberfläche. Die hochauflösende Waferstufe ermöglicht eine präzisere Erfassung der hochgenauen Belichtungsmuster. Darüber hinaus verfügt die Bühne sowohl über Neigungs- als auch Verschiebungsmerkmale, die mehr Kontrolle und Flexibilität über den Photolackprozess ermöglichen. Die schnellere Verbindungsgeschwindigkeit hingegen ermöglicht Hochgeschwindigkeitsdaten- und Belichtungsmustertransfers, was die Effizienz des Photolackprozesses erhöht. Die verbesserte Benutzeroberfläche ermöglicht eine einfache Bedienung des Geräts durch intuitive, anpassbare Displays. DAINIPPON SDW-636-CV verfügt auch über eine nachgewiesene Erfolgsbilanz in Bezug auf Zuverlässigkeit und Benutzerzufriedenheit, da es von vielen erstklassigen Herstellern und Gießereien vertraut wurde. Darüber hinaus verfügt SDW-636-CV über eine Vielzahl von speziellen und spezifischen Funktionen, die die Leistung der Maschine verbessern sollen. Dazu gehören erweiterte Dynamikbereichsmerkmale, höhere Genauigkeit bei der Belichtungsmusterausrichtung und mehr Kontrolle über den Retikelbelichtungsbereich. Es bietet auch eine höhere Auflösung für Streifen- und Schachbrettbelichtungen. Insgesamt ist DNS/DAINIPPON SDW-636-CV ein hochentwickeltes und hocheffizientes Photoresist-Tool. Mithilfe der Echtzeit-Prozessoptimierung und einer Vielzahl von Funktionen kann das Asset eine zuverlässige und wiederholbare Steuerung bereitstellen, um die hohen Genauigkeitsanforderungen moderner Photolithographieanwendungen zufriedenstellend zu erfüllen.
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