Gebraucht DNS / DAINIPPON SK-200W #293597075 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SK-200W Photoresist Equipment ist ein professionelles Gerät für Photolithographie-Prozesse. Es wurde speziell für hochauflösende Designs auf Halbleiterscheiben entwickelt, die eine Vielzahl von Anwendungen wie integrierte Schaltungen, Solarzellen und Festkörperbeleuchtung haben. DNS SK-200W ist ein digitales Bildgebungstool, das sowohl im Schritt- als auch im Vollfeldmodus arbeitet. Dies ermöglicht präzise wiederholbare Ergebnisse und große Durchsatzfähigkeit. Im Step-and-Repeat-Modus verwendet das System eine Reihe von vordefinierten Schritten und Belichtungen, um den Wafer abzubilden. Im Vollfeldmodus werden Bilder direkt von der CCD-Kamera des Geräts auf den Wafer übertragen. DAINIPPON SK 200W ist auch in der Lage, Hochleistungs-Simultanbelichtung durch die Verwendung von zwei Maskenkassetten und zwei Recater. Dies ermöglicht kürzere Belichtungszeiten und hohe Auflösungen. Die Maschine ist auch mit einem bordeigenen Ausrichtbrett ausgestattet, das die Genauigkeit zwischen den beiden Maskenkassetten aufrechterhält. DNS/DAINIPPON SK 200W ist mit einer breiten Palette von Photoresists kompatibel und beinhaltet rezeptbasierte Programmierung, mit der individuelle Belichtungsparameter schnell und genau programmiert werden können. Diese präzise Steuerung der Belichtungsparameter gewährleistet wiederholbare Ergebnisse, die zuverlässiger sind als herkömmliche Methoden. Neben seinen Kernfunktionen verfügt DAINIPPON SK-200W über eine Vielzahl von Funktionen, die auf Komfort und Produktionssteuerung ausgelegt sind. Dazu gehören ein direktes Bedienfeld für die manuelle Bedienung, eine digitale Auslesekarte zur präzisen Messung von Belichtungsparametern und ein großer farbiger LCD-Monitor zur Anzeige des Prozesses in Echtzeit. Das leistungsstarke SK-200W Photoresist Tool ist ein wesentliches Werkzeug für die Herstellung zuverlässiger und präziser Photolithographie-Teile und -Produkte. Seine hohe Durchsatzfähigkeit und seine praktischen Funktionen ermöglichen es Benutzern, Wafer schnell und präzise abzubilden, was es zu einer perfekten Wahl für fortschrittliche Photolithographie-Prozesse macht.