Gebraucht DNS / DAINIPPON SK-60BW-AVP #293664591 zu verkaufen

DNS / DAINIPPON SK-60BW-AVP
ID: 293664591
(1) Coater / (3) Developer system.
DNS/DAINIPPON SK-60BW-AVP ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Hochgeschwindigkeitsstrukturierung von elektronischen Materialien und Substraten. Das System verwendet eine hochpräzise 15-Zoll-Durchmessermaske, die von einer Präzisionsmasken-Schreibeinheit hergestellt wird, und kann Muster mit einer Auflösung von bis zu 2 μ m auf einem 4 „x4“ -Bereich erzeugen. Seine Ausrichtungsgenauigkeit ist bis zu 0,005 μ m hoch und ermöglicht eine präzise Strukturierung von ultrafeinen Linien und Vias. DNS SK-60BW-AVP verwendet fortschrittliche optische Bildgebungstechnologie, um die Schicht des Photolacks auf einer Reihe von Substraten genau abzuscheiden, von normalen elektronischen Materialien bis Indiumzinnoxid (ITO). Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, das zur Erzeugung leitfähiger Schichten oder Strukturen auf verschiedenen Substraten verwendet wird und die Bildung komplizierter Muster ermöglicht. DAINIPPON SK-60BW-AVP verfügt über eine hochpräzise optische Baugruppe, die die Maske und das Substrat präzise ausrichtet und eine genaue Musterübertragung ermöglicht. Nach der Belichtung des Substrats mit dem von der Maschine erzeugten UV-Licht wird dann der unbelichtete Photoresist zur weiteren Verarbeitung vom Substrat entfernt. SK-60BW-AVP ist auch mit einem fortschrittlichen Wärmewerkzeug ausgestattet, das das Substrat und das Widerstandsmaterial in einem idealen Temperaturbereich von 25 bis 40 ° C halten kann. Dies gewährleistet die präzise Abscheidung von Schichten, wodurch eine leichte Musterbildung gefördert wird. Die Anlage verfügt auch über eine Spülstation, wo die fertigen Substrate einem chemischen Prozess unterzogen werden können, um eventuelle Fremdpartikel oder Rückstände von den Substraten zu entfernen. Insgesamt ist DNS/DAINIPPON SK-60BW-AVP ein zuverlässiges und nützliches Photolackmodell, das eine hochpräzise Strukturierung und Schichtabscheidung verschiedener Substrate ermöglicht. Seine fortschrittliche Maske-Bild-Schreibtechnologie, hohe Auflösung und Temperaturkontrolle sorgen für die genaue und effiziente Produktion komplizierter elektronischer Strukturen.
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