Gebraucht DNS / DAINIPPON SK-80BW-AVPE #9298990 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SK-80BW-AVPE ist eine Nassverarbeitungs-Photoresist-Ausrüstung, die für die fortschrittliche Halbleiterherstellung verwendet wird und die höchste Geschwindigkeit, Präzision und Genauigkeit in Anwendungen wie Wafer-Photolithographie bietet. Das System besteht aus drei Hauptkomponenten: der Haupteinheit (einschließlich des Belichtungskopfes), dem Schaltschrank und der Stromverteilungs- und Steuerbox. Die Haupteinheit hilft, den Belichtungsprozess genau und präzise zu steuern, während der Schaltschrank und die Stromverteilung und die Steuerbox dazu beitragen, das Gerät vor Stromstörungen zu schützen. Der Belichtungskopf ist eine kombinierte Lichtquelle und Schlitzmaskenbaugruppe, bestehend aus einem internen Lampengehäuse, Schlitzmasken, bordeigenen Schlitzausrichtungs- und Registrierungsmechanismen und einer Stromversorgungs- und Lampensteuerungsmaschine. Das Werkzeug enthält auch ein Kühlelement, um thermische Gradienten zu verhindern, die sich auf den Belichtungsprozess auswirken könnten. Die Schlitzmasken sind so konzipiert, dass sie leicht austauschbar sind, so dass verschiedene Lichtmuster für verschiedene Anwendungen verwendet werden können. Eine externe Computerverbindung ist ebenfalls vorhanden und ermöglicht es dem Anwender, das Modell für verschiedene Wafergrößen und Belichtungen zu programmieren. Die Software zur Steuerung der Geräte ermöglicht eine präzise Steuerung der Belichtungsparameter wie Belichtungszeit und Energieniveau. DNS SK-80BW-AVPE Photoresist-System ist so gebaut, dass hochpräzise Genauigkeit, und seine proprietäre Spaltmaske Design bietet eine hochauflösende Bild bietet erhöhte Kapazität in der optischen Klarheit. Das Gerät ist auch für die Datenanalyse ausgelegt, wobei bis zu 64 Datenpunkte aus einer einzigen Photolackanwendung erhältlich sind. Die Maschine ist robust und zuverlässig und liefert präzise und wiederholbare Ergebnisse. Darüber hinaus ist das Tool vollständig konfigurierbar und bietet die Möglichkeit, die Belichtungseinstellungen zu variieren, um verschiedene Wafergrößen und -dicken aufzunehmen. Damit eignet er sich gut für eine Vielzahl von Photolackprozessen, insbesondere für diejenigen, die höchste Genauigkeit und Präzision benötigen.