Gebraucht DNS / DAINIPPON SK-80BW-AVPF #9354131 zu verkaufen
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ID: 9354131
Wafergröße: 6"-8"
Weinlese: 1998
(2) Coater / (2) Developer system, 6"-8"
Hot / Chill plates (7-26)
MICROBAR TrackMate chemical cabinet
(3) Control racks
1998 vintage.
DNS/DAINIPPON SK-80BW-AVPF ist eine fortschrittliche Photolackausrüstung, die bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Es kombiniert fortschrittliche maskenlose Lithographietechnologie mit modernster Photoresist-Chemie, um eine überlegene Linien-, Raum- und Musterauflösung zu erzeugen. Das System verwertet KrF-Laser direkte Bildvorsprungstechnologie, genaues und zuverlässiges Steindruckverfahren auf einem großen Angebot an Oblatensubstraten berücksichtigend. Dies optimiert die Leistung der herkömmlichen Lithographie, was zu reduzierten Herstellungskosten, verbesserten Ausbeuten und kürzeren Zykluszeiten führt. DNS SK-80BW-AVPF Photoresists wurden entwickelt, um eine überlegene Auflösung und Linienkantensteuerung zu bieten. Die Einheit enthält einen fortgeschrittenen anorganischen Lichtabsorber, der die minimale Laserwellenlänge von 248 nm für verbesserte Mustertreue und Genauigkeit dämpft. Es verfügt auch über eine proprietäre Photopolymerisationstechnologie, die eine stärkere Modulation der Lichtintensität über den gesamten Belichtungsbereich ermöglicht. Kombiniert führen diese Merkmale zu höherem Kontrast, reduzierter Musterverzerrung, weniger Bildrauschen und verbesserter Maßhaltigkeit. Ein weiterer Vorteil ist, dass die Maschine mit verschiedenen Nachbearbeitungstechniken wie Nassätzen und Trockenätzen kompatibel ist. Damit ist sichergestellt, dass alle Herstellungsverfahren von Halbleiterbauelementen einfach in DAINIPPON SK 80BW-AVPF Photoresist-Systeme integriert werden können. Insgesamt ist SK-80BW-AVPF Photolackwerkzeug eine ideale Lösung für die Geräteherstellung, die eine präzise Linienführung und Kantensteuerung erfordert. Seine erweiterten Auflösungsfähigkeiten, kombiniert mit überlegener Lichtdämpfung, machen es zu einem effizienten und kostengünstigen Prozess für die Herstellung von hochwertigen Halbleiterbauelementen. Die große Auswahl an Nachbearbeitungstechniken macht das Gut für eine Vielzahl von Geräteherstellungstechniken geeignet, die ein breites Spektrum von Anwendungen in der Elektronik und Nanotechnologie abdecken.
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