Gebraucht DNS / DAINIPPON SK-W80A #9144966 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SK-W80A ist ein Photoresist-Gerät zur Herstellung von Halbleiterscheiben. Das System verwendet ein Resistbeschichtungsmaterial, das intensivem Licht ausgesetzt ist, um gewünschte Merkmale in einen Wafer einzuätzen. Diese Technologie stammt aus einem fortschrittlichen Photolithographieverfahren, das ultraviolettes Licht beinhaltet und lichtempfindliche Materialien (Photoresists) belichtet, um Schaltungsmuster auf Halbleitern zu definieren. Das Verfahren beginnt mit einer Schicht aus Photolack, die auf eine Halbleiterscheibenoberfläche gesponnen wird. Einmal spinnbeschichtet, belichtet DNS SK-W80A dann den Photolack mit ultraviolettem Licht aus einem Projektionsschrittmacher. Dabei wird der Photolack entsprechend dem gewünschten Schaltungsmuster strukturiert. Die dem Licht ausgesetzten Bereiche werden unlöslich, während die nicht belichteten Bereiche löslich bleiben. Anschließend wird der belichtete Photolack in einem chemischen Entwickler entwickelt. Dieser Entwickler entfernt den nicht belichteten Photolack unter Belassung des unlöslichen Resists als Schutzschicht, die die gewünschten Schaltungsmuster abdeckt. Zur Vervollständigung des Schaltungsmusters werden weitere chemische Prozesse wie Ätzmittel und Metallisierung eingesetzt. Schließlich wird der Photolack entfernt, um das neu erzeugte Halbleitermuster freizulegen. DAINIPPON SKW-80A verfügt über eine Reihe fortschrittlicher Funktionen, die es für die Herstellung von Wafern im Nanometerspiegel geeignet machen. Das Gerät bietet ein hochempfindliches Resistbeschichtungsmaterial, eine hochpräzise Belichtungstechnik und eine mechanisierte Abgabemaschine. Dies gewährleistet Präzisionsgenauigkeit beim Beschichten und Belichten eines Halbleiterwafers. Darüber hinaus ermöglicht der eingebaute Aligner geringere Belichtungszeiten von nur 0,1 mJ/cm2 und bietet hochwertige Belichtungsmuster mit hoher Auflösung und hervorragender Wiederholbarkeit. Damit eignet sich das Werkzeug intensiv für die Herstellung von Wafern mit Konstruktionsmerkmalen auf Nanometerebene. Die Anlage hat auch eine fortschrittliche Temperaturregelung, so dass es für Material wie Sn-Ionen mit geringer Empfindlichkeit und Nano-Drähte mit einem Durchmesser von 0,75 um geeignet ist. Es verfügt über erweiterte Prozesssteuerungsfunktionen wie Präzisionsbelichtungstechniken, und das Modell kann in einer Vielzahl von Umgebungen betrieben werden, auch unter extremen Temperaturen. DNS/DAINIPPON SKW-80A verfügt auch über eine integrierte Prozesskammer für die Beschichtung von Resist und ist mit einer Reihe von zusätzlichem Zubehör erhältlich, um einen kontinuierlichen Produktionsprozess zu erleichtern. Zusammenfassend ist DAINIPPON SK-W80A eine hochpräzise Photolackausrüstung, die die Herstellung von Wafern mit Nanometereigenschaften ermöglicht. Sein empfindliches Resistbeschichtungsmaterial und seine fortschrittlichen Prozesskontrollfunktionen machen es für eine Vielzahl von Produktionsprozessen auch unter extremen Temperaturen geeignet. Sein eingebautes Ausricht- und Abgabesystem sorgt für hochwertige Belichtungsmuster mit sehr hoher Auflösung und Wiederholbarkeit.