Gebraucht DNS / DAINIPPON SK-W80B-AVPE #293746067 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SK-W80B-AVPE Photoresist ist eine hochpräzise, automatisierte Lösung zur Herstellung und Verarbeitung von 3D-Mustern auf einer Vielzahl von Substraten, einschließlich Halbleitern, magnetischen Materialien und Dünnschichttransistor-Arrays. Es wurde entwickelt, um dünne Linien und feine Details mit einer maximalen Auflösung von 0,6 Mikrometern zu erzeugen. DNS SK-W80B-AVPE ist ein All-in-One-automatisiertes Photolithographiesystem mit Prozessfähigkeit und einer integrierten Software-Suite zur Kalibrierung, Photomaskeninspektion, Belichtung und Nachbelichtungsprüfung. Die automatische Vision-Einheit nimmt und verarbeitet Fotos der belichteten Muster und kann Belichtungszeit, Schrittfahrgeschwindigkeit und Musterposition je nach Ergebnis anpassen. Die Maschine beinhaltet einen Spin-Coater zum Aufbringen von Photolack, einen Staubsauger zum Entfernen von Restfotolack, eine UV-Belichtungseinheit mit Vollrahmen-Masken-Aligner, einen Hitzebeständigkeitsofen zum Backen und eine Nassätzstation. DAINIPPON SKW-80B-AVPE ist in der Lage, Fotoresist- und Doppelfrequenzbelichtung anzuwenden, wodurch Muster mit höheren Seitenverhältnissen erzeugt werden können. Das Tool verfügt über eine benutzerfreundliche Oberfläche, mit der der Bediener jeden Prozessschritt in Echtzeit überwachen kann. Es enthält auch eine einzigartige Funktion, die die gemeinsame Nutzung von Daten zwischen mehreren Systemen ermöglicht. Dies ermöglicht Mustertransfer, verbesserte Produktivität und verringerte Ausfallzeiten in der Produktion. DNS SKW-80B-AVPE ist kompatibel mit einer breiten Palette von Substraten, einschließlich Silizium, Saphir, Quarz, Diamant, Glas, Kunststoff, Keramik und andere. Es wurde entwickelt, um zuverlässig und wiederholbar 3D-Muster auf flachen und gekrümmten Substraten mit einer Vielzahl von Linienbreiten, Steigungen und Tiefen zu erzeugen, um den Anforderungen verschiedener Anwendungen gerecht zu werden. DNS/DAINIPPON SKW-80B-AVPE ist äußerst zuverlässig und wartungsarm und bietet Anwendern eine kostengünstige Lösung für ihre Photolithographie-Anforderungen. Seine Vielseitigkeit, kombiniert mit seinen hochauflösenden Fähigkeiten, machen es zu einem idealen Kapital für die Herstellung von kleinen und komplizierten Mustern, die für die Herstellung von fortschrittlichen Elektronik- und Halbleiterbauelementen erforderlich sind.