Gebraucht DNS / DAINIPPON SKW-629-AV #9121644 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SKW-629-AV Photoresist Equipment ist ein leistungsstarkes, benutzerfreundliches System für Photolithographie-Prozesse bei der Herstellung fortschrittlicher elektronischer Komponenten. Es vereint die Eigenschaften der herkömmlichen naßchemischen Photoresist-Ausrüstung und der neu entwickelten trockenen Photoresist-Technologie. Das Gerät ist ergonomisch mit einem großen Arbeitstisch für komfortablen Betrieb ausgelegt. Es nutzt eine leistungsstarke 6-Zonen-Vorheizung mit integriertem Temperaturmessgerät für gleichbleibende hochwertige Musterung. Die präzise Maskenausrichtung und die Maschine zur Vermeidung von Verschmutzungen in der Luft sorgen für die genaue Positionierung der Maske und den Schutz empfindlicher Komponenten. Die Hochleistungs-LED-Belichtungsquelle ist mit einem einstellbaren Intensitäts- und Wellenlängenbereich für Präzisionsmuster ausgelegt. Es liefert Licht mit hoher Intensität für eine konsistentere Strukturierung bei einer breiteren Palette von Belichtungen. Die automatische Fokussierung gewährleistet eine hohe Genauigkeit für die Entwicklung dünnerer Resistschichten. DNS SKW-629-AV verfügt über eine Musteroptimierungssoftware, um eine präzisere Mustersteuerung über mehrere Bildebenen zu ermöglichen. Dies ermöglicht eine bessere Kontrolle von Belichtungs-, Ätz- und Galvanisierungsprozessen für die komplexesten Leiterplatten. Ein einzigartiger Nachentwicklungsofen sorgt für gleichmäßiges Backen und fördert eine höhere Produktausbeute durch optimierte Aushärtung des Photolacks. Dies ermöglicht auch eine schnelle Aushärtung von luftinhibierten Photoresists bei erhöhten Temperaturen. Der Ofen ist mit einem hochempfindlichen Photodetektor ausgestattet, um die Widerstandsdicke zu überwachen und die Aushärtungsdauer automatisch anzupassen. Das Werkzeug ist mit einer breiten Palette von Photolacken kompatibel, einschließlich derjenigen, die für spezielle Fertigungsprozesse in der Halbleiterindustrie optimiert sind. Und es ist in der Lage, eine breite Palette von Wafergrößen und komplexen Designs zu handhaben. Um den Prozess abzuschließen, können Anwender einen hocheffizienten Entwickler für eine saubere, kontaminationsarme Lösung hinzufügen. Und das Asset integriert sich auch in gängige Remote-Management-Software für zentrale Steuerung und Reporting. Insgesamt wurde DAINIPPON SKW-629-AV Photoresist Model entwickelt, um Geräteherstellern zu helfen, ihre Produktionseffizienz durch einen zuverlässigen und konsistenten Qualitätskontrollprozess zu steigern. Mit seinen optimierten Vor- und Nachentwicklungsfunktionen, der automatisierten Musteroptimierung und der Y-Achsen-Positionierung bietet es ein effizientes und vereinfachtes Mittel zur Erstellung komplexer elektronischer Komponenten.