Gebraucht DNS / DAINIPPON SKW-629-BV #293808882 zu verkaufen

DNS / DAINIPPON SKW-629-BV
ID: 293808882
Wafergröße: 6"
Coater / Developer system, 6".
DNS/DAINIPPON SKW-629-BV ist eine hochpräzise Photoresist-Ausrüstung zur Herstellung hochgenauer Halbleiterlithographieanwendungen. Das System verfügt über eine Digital Iris Unit (DIS) und eine 9-Zoll-Stufe, die große Substrate aufnimmt, die in Anwendungen von bis zu 50nm Linie und Raum verwendet werden können. Die Digital Iris Machine (DIS) bietet eine hohe Präzision für den Photolackeinsatz. Es besteht aus zwei Komponenten: einer Lichtquelle und einer Steuereinheit. Die Lichtquelle ist eine in sich geschlossene LED-Quelle, die mit einem Schrittmotor gekoppelt ist, um eine hochgenaue Bewegung des LED-Punktes von der Mitte zum Ziel-Resistpunkt zu ermöglichen. Die Steuereinheit sammelt Zielpositionsdaten von einem Vision-Tool und übersetzt sie in 3D-Koordinaten, die verwendet werden, um den LED-Spot genau in die Resist-Schicht zu platzieren. Dies ermöglicht eine genaue Überlagerung des Musters auf der Photolackschicht. Die 9-Zoll-Stufe unterstützt Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 4 Zoll und große Resistschichten. Es verfügt auch über eine intelligente Kantenerkennung Asset, um die Ausrichtungsgenauigkeit zu gewährleisten. Dieses Modell verwendet Kantenprofilinformationen, Zielorientierungsdaten und globale Beleuchtungsparameter, um die Ebene linear zu registrieren und Verschluss- oder Kantenfehler zu beseitigen. Die Ausrüstung bietet auch eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen. Dazu gehören eine Überdruckabschaltung, eine Überlichtabschaltung und eine Notstromabschaltung, um potentielle Schäden durch Spannungsschwankungen zu vermeiden. Es verfügt auch über eingebaute Überwachungssysteme, die anormale Temperaturen, Kurzschlüsse und andere Systemanomalien erkennen. Das DNS SKW-629-BV-Gerät ist so konzipiert, dass es hochpräzise und wiederholbare Lithographieergebnisse für eine Vielzahl von Anwendungen liefert. Es wurde mit fortschrittlichen Funktionen entwickelt, die eine hohe Genauigkeit bei minimalem Risiko von Beschädigungen oder Ausfällen gewährleisten. Es eignet sich für Anwendungen wie die Herstellung von nanoelektronischen Geräten, integrierten Schaltungen, MEMS-Geräten und Sensoren.
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