Gebraucht DNS / DAINIPPON SKW-629 #9181757 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SKW-629 ist ein negativ-toniges, positiv wirkendes Photoresist-Gerät, das für den Einsatz in der Halbleiterverarbeitung entwickelt wurde. Es ist ein fortschrittlicher, chemisch verstärkter Photolack, der mit einer Vielzahl von optischen Belichtungswerkzeugen kompatibel ist. DNS SKW-629 wurde entwickelt, um Ausbeute und Leistung für Prozesskontrollanforderungen in der fortschrittlichen Lithographie zu optimieren. Es bietet überlegene Auflösung, hervorragende Kantenabhängigkeit und hohen Kontrast. Der Photolack bietet eine hervorragende Resistleistung über eine Vielzahl von Belichtungsumgebungen. Seine niedrige Dosisempfindlichkeit hilft, die Prozesszeit zu reduzieren und die Strukturierung von Wafern zu vereinfachen. DAINIPPON SKW-629 Resists hat eine Trockenätzbeständigkeit, die anderen arkylischen Resistsystemen überlegen ist und ein starkes gleichmäßiges Ätzergebnis in Plasmaätzanwendungen gewährleistet. Es hat auch eine Kohlenstoff-Isolationsschicht, die die Ätzgeschwindigkeitsgenauigkeit verbessert und eine bessere Gleichmäßigkeit ergibt. Das System verfügt auch über eine verbesserte Filmstabilität nach langer Belichtung mit mehreren ultravioletten (UV) Lampen. Das Gerät ist so konzipiert, dass es verbesserte bildgebende Eigenschaften aufweist und ein hervorragendes Fotodefektivitätsprofil liefert. Es ist in der Lage, ein breites Spektrum von Funktionen von Sub-Mikron über Single Layer bis hin zu einem erweiterten Multilayer-Design zu erstellen. Der Resist bietet auch eine hervorragende Profilsteuerung, die das Design eines einheitlicheren Merkmals ermöglicht, und schnelle Belichtungszeiten, um die Prozesszeit zu reduzieren. Die Maschine ist kompatibel mit einer Vielzahl von Komponenten, einschließlich SEMI Standard Reinigungsprodukte, Ätzmittel, Entwickler und Dampfphasenabscheidungsmaterialien. Der Resist ist ideal für den Einsatz in 3D-Strukturen, da er mit minimalem Stehwasser gemustert werden kann und somit ein einfaches Endprodukt ergibt. Schließlich können SKW-629 Resiststoffe in den beliebtesten Nassverarbeitungschemikalien verwendet werden, wodurch Verträglichkeit und Qualität während des gesamten Prozesses gewährleistet werden. Insgesamt ist DNS/DAINIPPON SKW-629 Photoresist-Tool entwickelt, um qualitativ hochwertige, wiederholbare Ergebnisse in einer Vielzahl von Halbleiterherstellungsanwendungen zu liefern. Es bietet überlegene Auflösung, schnelle Belichtungszeiten und verbesserte Ätzbeständigkeit. Der Resist bietet eine hervorragende Profilkontrolle, so dass eine breite Palette von Funktionen für ein einheitlicheres Endprodukt erstellt werden kann. Darüber hinaus ist die Anlage mit den meisten Industriestandard-Komponenten und Reinigungsprodukten kompatibel. Seine abgerundeten Eigenschaften machen es zu einer idealen Wahl für fortschrittliche Lithographie in der modernen Chipherstellung.