Gebraucht DNS / DAINIPPON SKW-629 #9226171 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SKW-629 ist eine hochgenaue Photoresist-Beschichtungsanlage, die in der Halbleiterindustrie verwendet wird. Dieses System ermöglicht die präzise Abscheidung von Photolack auf Oberflächen aus Silizium und anderen Halbleitermaterialien. Photoresist ist eine lichtempfindliche Flüssigkeit oder Beschichtung, die verwendet wird, um mikroskopische Muster auf einem Substrat zu erzeugen. Diese Muster können bei der Herstellung von Halbleitern, mikroelektronischen Bauelementen und anderen elektrischen Bauelementen verwendet werden. DNS SKW-629 ist eine hochempfindliche Photoresist-Einheit, die sehr kompatibel mit Halbleitersubstraten ist. Die Maschine enthält präzise Spender, die den Photolack gleichmäßig auf die Oberfläche des Substrats genau dispergieren. Die Spender sind mit mehreren einzeln gesteuerten Düsen ausgestattet, die eine aufwendige Musterbildung ermöglichen. Das Werkzeug ist mit einer Vielzahl von Photolackmaterialien und Applikationsmethoden kompatibel. Auf diese Weise können Benutzer die gewünschten Muster erstellen, sei es komplexe Linien oder einfache Formen. Das Asset kann auch für nicht-lithographische Photoresist-Anwendungen wie Sputtern verwendet werden. Sobald der Photolack auf dem Substrat angebracht ist, wird er dann ultraviolettem Licht ausgesetzt. Je nach gewähltem Photolack werden ausgewählte Bereiche entweder gelöst oder verfestigt. Nach dem Nachbelichtungsbacken werden die unerwünschten Stellen weggewaschen und das gewünschte Muster dann auf dem Substrat zurückgelassen. DAINIPPON SKW-629 ist für einen robusten Betrieb ausgelegt, wobei jeder Dispenser durch ein automatisiertes Feedback-Modell gesteuert wird. Dies gewährleistet eine präzise und konsistente Abgabe von Photolack auf die Oberfläche des Substrats. Insgesamt ist SKW-629 eine hochgenaue und zuverlässige Ausrüstung zur Beschichtung von Substraten mit Photolack. Dieses System bietet Anwendern ein zuverlässiges und effizientes Verfahren zur Herstellung komplexer Muster auf Halbleitersubstraten. Diese Einheit ist ideal für die Herstellung komplexer elektrischer Bauelemente in der Halbleiterindustrie.