Gebraucht DNS / DAINIPPON SKW-629 #9269119 zu verkaufen

DNS / DAINIPPON SKW-629
ID: 9269119
Wafergröße: 6"
Coater / Developer systems, 6".
DNS/DAINIPPON SKW-629 ist eine Präzisionsfotoresistausrüstung, die Präzisionsbild- und Ätzfähigkeiten für den Einsatz in der Elektronik- und Halbleiterindustrie bietet. Es ist ein vielseitiges kompaktes System, das in der Lage ist, eine Vielzahl von Oberflächenbehandlungsanforderungen für niedrige und hohe Serien zu erfüllen. Das Gerät wurde entwickelt, um die Erstellung von Photomasken und anderen Mustern zu automatisieren, sodass Benutzer schnell genaue Muster erstellen können und gleichzeitig eine bessere Wiederholbarkeit bieten als jede Standardmaschine. Das Werkzeug verwendet eine Kombination aus Photolithographie-Technologie und einer Reihe von Ätztechniken, um Photoresist-Muster zu erzeugen. Die Photolithographie ist ein Verfahren, das mit Licht ein Muster auf ein Substrat formt und die Grundlage für die moderne Halbleiterproduktion bildet. Diese Anlage verfügt über eine hochauflösende Fotomasken-Belichtungskammer, ein hochempfindliches automatisiertes Wafer-Handling-Modell und eine fortschrittliche Positivton-Ätzausrüstung. Die Belichtungskammer ist in der Lage, eine Vielzahl von Substraten, einschließlich Glas, Quarz, Silizium und andere Materialien genau zu belichten. Es kann auch einen Bereich von Wellenlängen und Lichtstufen behandeln, um sicherzustellen, dass die perfekte Fotomaske erstellt werden kann. Das Wafer Handling System ist zudem hochempfindlich und ermöglicht eine präzise Handhabung von Wafern und anderen empfindlichen Komponenten. Schließlich bietet die Ätzeinheit eine Reihe von Ätztechniken, um eine Vielzahl von Fotolackmustern zu erstellen. Dazu gehören sowohl Nass- als auch Trockenätzsysteme sowie Laser- und optische Ablation zur Erzeugung von Präzisionsmustern. Auf diese Weise können Benutzer Photolackmuster präzise formen, die mit anderen Systemen nicht erstellt werden können. Insgesamt bietet DNS SKW-629 eine hochpräzise und flexible Fotolackmaschine, die komplizierte Muster schnell und präzise herstellen kann. Es bietet eine breite Palette von Belichtungs- und Ätztechniken sowie hochgenaue und empfindliche Wafer-Handhabungsfunktionen. Dies macht es zu einer guten Wahl für Labore und Produktionsstätten, die nach einem zuverlässigen Fotolackier- und Ätzwerkzeug suchen.
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