Gebraucht DNS / DAINIPPON SP-W813 #293643045 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SP-W813 ist eine fortschrittliche lithographische Ausrüstung, die speziell für die Herstellung von Photomasken und Wafern für die Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Dieses System verwendet Photolithographie-Technologie, das ist der grundlegende Prozess, der verwendet wird, um integrierte Schaltungen und andere Geräte auf einem Silizium-Wafer zu erstellen. Bei der Photolithographie werden Licht- und chemische Verfahren verwendet, um Muster auf den Siliziumwafer zu übertragen. Diese Einheit besteht aus mehreren Komponenten, die zusammenarbeiten, um das gewünschte Muster auf den Wafern zu erzeugen. DNS SP-W813 besteht aus einer Lichtquelle, einer Maskiereinheit, einer Retikelstufe, einer Objektivlinse, einem LED-Patten-Generator, einer LED-Ausrichteinheit und einer Photoresist-Beschichtungsmaschine. Die Lichtquelle versorgt die LED-Ausrichteinheit, die LEDs genau auf der Retikelstufe positioniert. Die Retikelstufe wird dann mit einer binär codierten Maske geladen, die das gewünschte Musterbild aufweist. Die Maske wird dann mit extrem ultraviolettem (EUV) Licht beleuchtet, das vom LED-Patten-Generator erzeugt wird. Das EUV-Licht gelangt dann durch die Maske auf den mit Photolack beschichteten Wafer. Dabei überträgt das Licht das gewünschte Muster auf den Wafer. Schließlich wird dann der Photolack entwickelt, um die vorgegebene Fläche des Wafers zu einem ausgehärteten und gehärteten Material zu verdrehen. Die Photoresist-Entwicklungssysteme von DAINIPPON SPW-813 ermöglichen die präzise Steuerung der Entwicklungszeit durch die computergesteuerte ultraviolette Belichtungsverarbeitung. Das Photolackwerkzeug wird EUV-Licht aus dem LED-Mustergenerator ausgesetzt, der die Photosäuregeneratoren des Photolackes aktiviert, die den Photolack von der vorgegebenen Fläche weg auflösen. SPW-813 verfügt über zahlreiche Merkmale zur Herstellung von hochpräzisen und hochwertigen Wafern. Nach der Entwicklung des Fotolacks verfügt DNS SPW-813 über ein hochauflösendes Bildmaterial, mit dem klare Bilder mit minimaler Bildverzerrung und Körnung erfasst und analysiert werden können. Dieses Modell bietet auch einfach einstellbare Parameter, die eine präzise Steuerung der EUV-Emissionen und ein vertieftes optisches Design ermöglichen, das wärmeerzeugende Komponenten minimiert. Schließlich verfügt DAINIPPON SP-W813 über eine minimal automatisierte Produktionsausrüstung, die die Bearbeitungszeit reduziert und den Durchsatz erhöht. Insgesamt ist SP-W813 Photolithographie-System mit einer Vielzahl von Funktionen und Komponenten ausgestattet, um eine präzise Steuerung der Photolackentwicklung, eine präzise Steuerung der EUV-Emissionen und eine präzise Bildgebungstechnologie zu ermöglichen, die es Anwendern ermöglicht, Bilder höchster Qualität auf dem Wafer zu erstellen. Mit diesen nützlichen Funktionen und seinem computergesteuerten Prozess ist DNS/DAINIPPON SPW-813 eines der fortschrittlichsten Systeme, die für die Erstellung präziser Photomasken und Wafer in der Halbleiterherstellung zur Verfügung stehen.