Gebraucht DNS / DAINIPPON SS-80B #293658147 zu verkaufen

DNS / DAINIPPON SS-80B
ID: 293658147
(3) Coater / (3) Developer system.
DNS/DAINIPPON SS-80B ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die verwendet wird, um Muster auf Wafern und Schaltungen für Halbleiter- und andere mikroelektronische Anwendungen zu erstellen. Das System ist für mehrere Substratgrößen konzipiert, ermöglicht eine einstellbare Belichtungsfeldgröße für bestimmte Bereiche und bietet eine präzise Ausrichtung. Kernkomponente der Einheit ist EUV Optics, die einen Saphir-Wafer verwendet, um 13,5 nm Wellenlängenlicht auf den Wafer für eine bildgebende Quelle zu leiten und zu leiten. Zur genauen Strukturierung des Wafers verwendet die EUV-Optik eine Strahlmusterausrichtmaschine (BPAS), ein Zweistrahl-Ausrichtwerkzeug, das über eine Anordnung beweglicher Spiegel arbeitet, die die einfallenden Lichtstrahlwinkel feinjustieren. Dieses BPAS-Asset ermöglicht eine hohe Präzision und Genauigkeit bei der Ausrichtung des Strahls und erleichtert so die komplizierte Mustererzeugung. DNS SS-80B integriert auch eine Vielzahl von Spezialmerkmalen, um die Prozessgeschwindigkeit und -genauigkeit für die Großserienproduktion zu erhöhen. Durch fortgeschrittene Datenanalyse und -verarbeitung ist das Modell in der Lage, seine Verwendung von Multi-Domain-Belichtungsparametern zu optimieren und höhere Lichtempfindlichkeitsleistungen zu ermöglichen. Darüber hinaus bietet das Gerät Einzelschuss-Bestrahlungsfähigkeiten, die die Strukturierungszeit deutlich verringert, indem die Anzahl der Expositionen für das gegebene Gebiet reduziert wird. Sicherheitstechnisch weist das System mehrere Merkmale zum Schutz des Benutzers auf, wie z.B. ein flüssigkeitsgekühltes Lasergehäuse, um den Laser vor Überhitzung zu bewahren, sowie ein Gleitscanner-Feature, das außerhalb des bezeichneten Bereichs emittierende Strahlen schnell detektiert. Insgesamt ist DAINIPPON SS-80B eine fortschrittliche Photoresist-Einheit, die eine Vielzahl von Funktionen bietet, wie Laserkühlung, Einzelschuss-Bestrahlung und präzise Strukturierung, um die Anforderungen der heutigen schnell fortschreitenden Halbleiterindustrie zu erfüllen.
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