Gebraucht DNS / DAINIPPON SS-W60A-AV #9314198 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON SS-W60A-AV ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für die Photolithographie verwendet wird, um genaue und zuverlässige Schaltungsmuster auf Halbleiterscheiben zu erzeugen. Es bietet eine Reihe von Funktionen, um eine optimale Bildgebungsleistung zu gewährleisten, einschließlich einer Mid-UV (248nm) Laserquelle für hochauflösende Bilder und hohen Durchsatz. Darüber hinaus ist es mit einem hochgenauen HeNe-Laserbelichtungssystem zur Ausrichtung des Belichtungsfeldes auf Waferpositionen während der Belichtung ausgestattet. DNS SS-W60A-AV verwendet eine Vielzahl von Optiken und Photomasken, um hochgenaue Resistmaterialmuster zu erstellen. Es verwendet einen Bildarray-Scanner, um den Laserbelichtungsmechanismus zu synchronisieren und eine präzise Musterdarstellung zu gewährleisten. Der Scanner ist mit einem Hochleistungsobjektiv mit NA = 0,5 ausgestattet, um ein überlappendes Musterlayout bereitzustellen. Dadurch wird sichergestellt, dass die Muster genau überlappt werden können, um kompliziertere Muster zu erzeugen. DAINIPPON SS-W60A-AV verwendet auch eine Vielzahl von bildgebenden Technologien, einschließlich RIE, PRT, SLIT und Flachbettbildgebung. RIE ist ein reaktives Ionenätzverfahren, mit dem Schichten aus einem Substrat geätzt werden, um Metallschaltungsmuster zu erzeugen. PRT ist ein Photoresist-Verfahren zur genauen Kontrolle des Resistmaterials, indem die Oberfläche des Wafers in verschiedenen Winkelorientierungen fein abgebildet wird. SLIT ist eine Lithographietechnik, die verwendet wird, um Partikelgrößen zu reduzieren, um kleinere Funktionen zu schaffen, und Flachbettbildgebung ist eine konventionellere bildgebende Technik für einfache Muster. Das Gerät enthält auch eine hochgenaue Stufe und eine breite Palette weiterer Funktionen, um die Präzisionsausrichtung und Bildgebung zu unterstützen. Diese Merkmale umfassen eine 50nm Genauigkeit Stufenbewegung, Neigungskompensation, Anti-Crawling-Systeme und eine automatische Verschlussmaschine. Diese Merkmale stellen sicher, dass die Bilder genau überlappt werden, Material genau kontrolliert widerstehen und dass die Ausrichtung des Belichtungsfeldes mit dem Wafer präzise ist. Zusammenfassend ist SS-W60A-AV ein hochentwickeltes Photoresist-Tool, das in der Photolithographie verwendet wird, um hochgenaue und zuverlässige Muster auf Halbleiterscheiben zu erstellen. Es verwendet eine Vielzahl von bildgebenden Technologien, einschließlich RIE, PRT, SLIT und Flachbettbildgebung, sowie eine Vielzahl von anderen Funktionen, um die höchste bildgebende Leistung und Genauigkeit zu gewährleisten.