Gebraucht EATON / LSI 6000 & 6000XL #29581 zu verkaufen

EATON / LSI 6000 & 6000XL
ID: 29581
Wafergröße: 2-6"
Track Systems. Can be fully supports with Full PCB repair, remanufactured new or rebuilt, Custom configuration available.
EATON/LSI 6000 & 6000XL Photolacksysteme sind industrielle Systeme, die speziell für die Herstellung von Halbleitern wie Bildsensoren, Speicherchips und Mikroprozessoren entwickelt wurden. Bei Photoresistsystemen werden die Halbleiterbauelemente mit Licht strukturiert. Das 6000XL ist eine aktualisierte Version der ursprünglichen 6000-Geräte, die eine größere Prozessfläche, verbesserte Leistung und bessere Skalierbarkeit bietet. LSI 6000 ist mit einem großen 10x14 Zoll Prozessbereich konzipiert, so dass eine Vielzahl von Mustern in einem einzigen Photolacksystem hergestellt werden kann. Die anfängliche Belichtung des Targets erfolgt durch einen Digital Mask Aligner (DMA), der das gewünschte Lichtmuster auf das Zielsubstrat projiziert. Das Gerät verfügt über Vollfeldscanning (FFS) -Technologie, die eine präzisere Strukturierung des Substrats ermöglicht. Mit dieser Technologie entfällt auch die manuelle DMA-Ausrichtung, um Genauigkeit und Konsistenz zu gewährleisten. Darüber hinaus kann EATON 6000 zur Nachbelichtungsglättung (PES) verwendet werden, ein Verfahren, das die Seitenwände der Halbleiterbauelemente für eine verbesserte Leistung glättet. Darüber hinaus ist die Maschine mit einer AEV-Funktion (Auto-Exposure Verification) ausgestattet, die automatisch die Genauigkeit der Belichtungswerte anhand eines Referenzstandards überprüft. Dies hilft, Genauigkeit und Prozesskonsistenz zu gewährleisten. Schließlich bietet EATON/LSI 6000XL eine verbesserte Leistung und Skalierbarkeit im Vergleich zum Standard 6000. Dieses erweiterte Modell ist mit einem größeren 20x30-Zoll-Prozessbereich, einer verbesserten FFS-Technologie und verbesserten Benutzeroberflächen ausgestattet. Darüber hinaus ist das Tool auf den Standard-Glättungsprozess nach der Belichtung aufrüstbar, sodass Benutzer ihre Setups entsprechend anpassen können. Abschließend sind LSI 6000 & 6000XL Photolacksysteme speziell für die Herstellung und Herstellung von Halbleiterbauelementen konzipiert. Diese Systeme bieten eine verbesserte Leistung und Skalierbarkeit im Vergleich zum ursprünglichen 6000-Modell und verfügen über eine Vielzahl von Funktionen wie DMA, FFS und PES. Schließlich verfügt das aktualisierte Modell auch über einen AEV für verbesserte Genauigkeit und Prozesskonsistenz.
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