Gebraucht EATON XL622B #9180693 zu verkaufen

Hersteller
EATON
Modell
XL622B
ID: 9180693
Coater / Developer system.
EATON XL622B ist eine hochleistungsfähige, hochpräzise Photolackausrüstung, die für die Beschichtung von Photolacken auf Waferebene auf einer Vielzahl von monokristallinen Halbleitersubstraten entwickelt wurde. Das System wurde entwickelt, um Präzision und Wiederholbarkeit in einer kontrollierten Umgebung zu gewährleisten. XL622B verwendet eine Flüssigkeitsstandsüberwachungseinheit, um Anwendern zu hochwertigen Beschichtungen mit wiederholbaren Ergebnissen zu verhelfen. Die Maschine enthält einen Dampfdispergator, einen Flüssigkeitsstandmonitor, einen Resistheizblock und eine Widerstandsmesseinrichtung. Diese Komponenten arbeiten zusammen, um einheitliche, konsistente und wiederholbare Schichtdicke und Strukturierung von Photoresists über Substrate zu schaffen. Der Dampfdispergator liefert präzise und ansprechende Ströme von Photoresistdämpfen an das Substrat. Dadurch wird sichergestellt, daß der Photolack ohne hohe Haftflächen oder niedrige Hohlraumtaschen in der Photolackschicht in die gewünschte Fläche geliefert wird. Der Flüssigkeitsstandmonitor hilft Benutzern, eine konstante Beschichtungsdicke zu erhalten, indem er die Dicke des Photolacks beim Aufbringen ständig misst. Die Widerstandsmeßeinrichtung überwacht und erfasst dann den elektrischen Widerstand des Photolacks während des Beschichtungsprozesses. Dadurch erhalten Anwender Informationen über die Gesamtqualität der aufgebrachten Photolackschicht. Der Resistheizblock hilft ferner bei gleichmäßiger Abgabe des Photolacks, indem er eine gleichmäßige und wiederholbare Erwärmung des Photolacks über den Wafer ermöglicht. Die Fähigkeit, genaue und wiederholbare Messungen der Photolackschicht in Kombination mit der präzisen Abgabe konsistenter Resistdämpfe und der gleichmäßigen Erwärmung der Photolackschicht durchzuführen, ermöglicht es EATON XL622B, hochwertige Beschichtungen mit hervorragenden Wiederholbarkeitsergebnissen zu erstellen. Auf diese Weise können Benutzer konsistente Photolackschichten auf Waferebene mit hoher Qualität und minimaler Variation erstellen.
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