Gebraucht EBARA CADS HVM #9112898 zu verkaufen

EBARA CADS HVM ist eine von EBARA entwickelte Photoresist-Ausrüstung, die schnelle und genaue Photolithographie-Prozesse ermöglicht. Das System ermöglicht die Erstellung von Metalllinien und anderen Mustern auf mikroelektronischen Geräten mit hoher Genauigkeit. Dieses Gerät verwendet eine elektronische Scanmaschine mit fortschrittlicher Laseroptik, eine breite Palette von Fotoresistchemikalien und ein Hochleistungs-Maskenausrichtwerkzeug. CADS HVM Asset umfasst eine hochpräzise Laserquelle, die den empfindlichen Resistfilm beleuchtet. Der Laserstrahl wird dann entsprechend dem zu bedruckenden Muster moduliert und der Strahl dann auf die Resistschicht gerichtet. Ein fortgeschrittenes optisches Modell wird dann verwendet, um den Strahl direkt auf die Resistschicht zur hochauflösenden Strukturierung zu projizieren. EBARA CADS HVM verwendet auch eine hochpräzise Maske Ausrichter Ausrüstung für genaue Registrierung und Mustertransfer des Musters auf die Resistschicht. Das System ist in der Lage, Muster so klein wie 0.05um in der Größe und bis zu 180um in der Tonhöhe zu drucken. Die Einheit bietet auch eine integrierte Strahlprofilsteuerung, so dass komplexe Muster genau wiedergegeben werden können. CADS HVM-Maschine verfügt auch über eine Reihe von Foto-Resistchemikalien, die es ermöglichen, für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet werden. Die präzise Steuerung von Wellenlängen, Temperaturen und Photoresistchemikalien sorgt für eine gute Haftung des Resists auf dem Substrat und sorgt für eine hochpräzise Strukturierung. Um eine genaue Musterung zu gewährleisten, verfügt EBARA CADS HVM auch über integrierte Software- und Hardware-Diagnosesysteme. Diese können Fehler in der Anlage wie Low-Power-Laserquelle, Abweichungen in der Maske Ausrichter, sowie alle Fehler in der Foto Resistchemikalien zu erkennen. Abschließend ist CADS HVM-Modell eine fortschrittliche Photolithographie-Ausrüstung, die eine schnelle, genaue und präzise Strukturierung von mikroelektronischen Geräten in hoher Auflösung bietet. Das integrierte Maskenausrichtungssystem, die Auswahl an Fotoresistenzen und die fortschrittliche Laserquelle bieten eine hervorragende Leistung in einer Vielzahl von Anwendungen. Die integrierten Diagnosesysteme bieten zudem exzellente Genauigkeit und Qualitätssicherung.