Gebraucht EBARA UFP 200 / 300A #9132640 zu verkaufen

EBARA UFP 200 und 300A Photoresists sind fortschrittliche Photoresists, die entwickelt wurden, um hochauflösende Muster und Benutzerfreundlichkeit im Halbleiterherstellungsprozess zu gewährleisten. Diese beiden Systeme bieten Benutzern eine hochauflösende Strukturierung auf jeder Schicht des Wafers und verfügen über Hochgeschwindigkeitsbetriebsfunktionen. EBARA UFP 200/ 300A verwendet Laserstrahl-Projektionstechnologie, um die gewünschten Muster aufzuzeichnen, die auf der Photolackschicht belichtet werden sollen. Im Zentrum des Gerätes steht seine X-Y-Scan- und Projektionsoptik, die eine großflächige Strukturierung mit mindestens 0,25 Micron Tonhöhe ermöglicht. Mit dieser Funktion können hochauflösende Atomkraftmikroskopieanwendungen mit größerer Genauigkeit durchgeführt werden. Darüber hinaus umfasst das System weitere Merkmale wie einen automatischen Waferförderer und eine automatisierte Ausrichteinheit, die eine automatisierte Strukturierung ermöglicht. Auf diese Weise wird sichergestellt, dass Muster exakt und konsequent vom Steuerrechner auf die Resistschicht übertragen werden. Für einen optimalen Schutz verfügt die Maschine auch über verschiedene optische Filtersysteme, die helfen, den Fotolack vor der Laserquelle zu schützen, was zu einem höheren Durchsatz und weniger Abfall bei der Arbeit mit Hochgeschwindigkeitsprozessen führt. Ein Dämpfungswerkzeug hilft auch Ermüdung zu reduzieren und bietet zusätzlichen Schutz bei der Aufnahme der Belichtungen. EBARA UFP Photoresist-Systeme sind mit einer breiten Palette von Resistbeschichtungen kompatibel, einschließlich positiver und negativer Photoresist und fortschrittlicher mehrschichtiger Metall-Hardmaske-Systeme, die Produktionsflexibilität und Kosteneinsparungen bieten. Zudem sind die Systeme sowohl mit KrF- als auch mit ArF-Laserquellen kompatibel und bieten eine breite Palette von Mustertiefen und Belichtungen. Schließlich wurde die Prozesssteuerungssoftware entwickelt, um Anwendern eine Reihe ausgeklügelter Tools zur Verfügung zu stellen, um den Prozess zu überwachen und jedes Mal konsistente Ergebnisse zu gewährleisten. Dies umfasst eine umfassende Palette von Analyse- und Steuerungstools, wie Echtzeit-Waferanalyse und Histogrammsteuerung, sowie eine erweiterbare Bibliothek mit Rezepten und Rezepten mit empfohlenen Parametern, die Anwendern dabei helfen, ihren Prozessablauf zu optimieren.