Gebraucht EBARA UFP 300A #9185406 zu verkaufen

EBARA UFP 300A ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Entwicklung von Hochdurchsatzprozessen für fortschrittliche Halbleiteranwendungen. EBARA UFP-300A bietet fortschrittliche Prozessfähigkeiten wie Ätzratenkontrolle, Photoresist-Planarisierung und Lithographie-Reparatur für die Herstellung von Silizium-Wafern. Das System besteht aus drei Komponenten: einem Photolacksprüher, einem Maskenausrichter und einer zugehörigen Plattform. Der Photolacksprüher in der Einheit ist so ausgelegt, dass die Dicke, Gleichmäßigkeit und Zuverlässigkeit der Resistbeschichtung gesteuert wird. Der Masken-Aligner wird verwendet, um Masken auszurichten, Musterung anzuwenden und Kontakt mit dem Silizium-Wafer herzustellen. Die Plattform bietet die Schnittstelle zwischen Sprühgerät und Maskenausrichter. Diese Plattform umfasst eine Wafer-Handhabungseinheit mit einem Roboterarm mit variabler Geschwindigkeit, eine Vision-Lenkmaschine und einen linearen Positionierer, der die Bewegung des Roboters steuert. Die Plattform wird über eine benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche gesteuert, was die Bedienung des Tools erleichtert. UFP 300A ist mit einer digitalen Asset-Control-Einheit ausgestattet, die die verschiedenen Funktionen des Modells steuert. Diese Steuereinheit ist in der Lage, die Betriebszustände der Ausrüstung zu berechnen und die Geschwindigkeit des Roboterarms einzustellen. Es ermöglicht dem Bediener auch, den Status jedes Geräts im System zu überprüfen. Darüber hinaus ist die Steuereinheit auch in der Lage, Daten über die Leistung der Einheit anzuzeigen, wie die Adhärenzrate des Photolacks auf dem Wafer, die Ätzrate des Photolacks und den Gesamtdurchsatz der Maschine. UFP-300A bietet eine breite Palette von Funktionen, die die Ausbeute des Halbleiterherstellungsprozesses verbessern sollen. Es ist mit einem Hochgeschwindigkeits-Auto-Aligner für schnelleres Substrathandling und verbesserte Zuverlässigkeit ausgestattet. Das Werkzeug enthält auch eine Trümmerentfernung und eine automatische Photoresist-Abisoliereinheit, um Ausfallzeiten zu reduzieren. Darüber hinaus wurde die hochpräzise Musterübertragungsausrüstung des Modells entwickelt, um genaue Ergebnisse zu gewährleisten. EBARA UFP 300A eignet sich aufgrund seiner Skalierbarkeit und Flexibilität auch ideal für Serienreife. Das System kann an die Bedürfnisse des Kunden angepasst werden, einschließlich kundenspezifischer Komponenten, Zubehör und Optionen. Die Einheit kann einfach für verschiedene Anwendungen angepasst werden, so dass sowohl einschichtige als auch mehrschichtige Designs hergestellt werden können. EBARA UFP-300A verfügt auch über eine fortschrittliche Tracking-Maschine zur Überwachung und Optimierung des Prozesses. Insgesamt ist UFP 300A ein innovatives Photolackwerkzeug mit einer Vielzahl von Funktionen, die die Effizienz und Ausbeute des Halbleiterherstellungsprozesses maximieren sollen. Die Anlage wurde entwickelt, um den Anforderungen fortschrittlicher Halbleiteranwendungen gerecht zu werden und hohe Durchsatzprozesse und zuverlässige Ergebnisse zu bieten.