Gebraucht EDWARDS XE-200 #9070677 zu verkaufen

EDWARDS XE-200 ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Herstellung von hochpräzisen Mustern und Eigenschaften auf Oberflächen. Das System verwendet Licht, um freiliegende Flächen selektiv zu verändern. Eine belichtete Oberfläche ist eine, die mit einem Photolack beschichtet wurde. Photolacksysteme werden für eine Vielzahl von Anwendungen eingesetzt, aber XE-200 eignet sich besonders gut für genaue Linienmuster, die eine enge Toleranzkontrolle erfordern. EDWARDS XE-200 besteht aus fortschrittlicher Optik, einschließlich eines hochauflösenden Mikroskops und einer Rasterlinseneinheit, sowie einer linearen Anordnung von LEDs zur Beleuchtung. Das Mikroskop hat einen Vergrößerungsbereich von 20x bis 60x, während das Rasterobjektiv ein Sichtfeld von 1,2 Millimetern aufweist. Die mit beiden Linsen zusammen erreichbare Gesamtschärfe beträgt 0,2 Millimeter. Das LED-Array bietet eine gleichmäßige Abdeckung des Sichtfeldes und bietet vier vorprogrammierte Belichtungsbereiche. Neben der Optik verfügt XE-200 über eine erweiterte Softwaresteuerung. Die integrierte Benutzeroberfläche erleichtert die Konfiguration und Anpassung von Belichtungsparametern. Darüber hinaus ermöglicht es eine präzise Positionskontrolle der X-Y-Bühne, so dass der Benutzer die Plattform schnell und präzise bewegen kann. Die Software ermöglicht auch anpassbare Profile des Belichtungsmusters, wodurch die Maschine mit wenigen Mausklicks das gleiche Muster reproduzieren kann. Schließlich verwendet EDWARDS XE-200 fortschrittliche Maskierungstechniken, um die Form und Größe der belichteten Oberfläche genau zu steuern. Dies wird durch die Verwendung spezieller Masken erreicht, die bestimmte Bereiche des Photolacks unterdrücken und andere belichten. Das Tool verfügt auch über mehrere Größen von Masken, so dass es kompliziertere Muster zu erzeugen. Diese Maskierungstechnik ist besonders vorteilhaft, wenn versucht wird, KEs mit sehr engen Toleranzen zu erzeugen. Insgesamt ist XE-200 ein leistungsfähiges Photoresist-Asset, das komplizierte, hochpräzise Muster auf Oberflächen erzeugt. Mit seinen fortschrittlichen Optik-, Software- und Maskierungstechniken ist das Modell in der Lage, Linienmuster beispielloser Auflösung und Genauigkeit zu erstellen. Ob für industrielle oder wissenschaftliche Anwendungen, EDWARDS XE-200 bietet die bestmögliche Präzision in der Photoresist-Produktion.