Gebraucht EEJA / ELECTROPLATING ENGINEERS OF JAPAN Posfer-S4 #9099252 zu verkaufen

ID: 9099252
Wafergröße: 6"
Linear gold plating system, 6" Convertible to 8" Hardware: Cub4 storage.
EEJA Post-S4 ist eine Fotoresistausrüstung, die von Electropolating Engineers of Japan (ELECTROPLATING ENGINEERS OF JAPAN) entwickelt wurde. Dieses System ist für den Einsatz in galvanischen und chemischen Prozessen konzipiert und liefert zuverlässige und genaue Photoresist-Ergebnisse. Das Gerät bietet zwei unabhängige Photoresist-Belichtungsgeräte zur Präzisionskontrolle von Belichtungszeit und Gleichmäßigkeit, was es für verschiedene Photoresist-Prozesse geeignet macht. Diese Maschine ist für ein- und doppelseitige Photolackprozesse konzipiert und ermöglicht die Realisierung von Photolackprozessen mit hoher Toleranz und hoher Genauigkeit. Um dies zu erleichtern, kann es mit einer präzisen Temperatur- und Feuchtigkeitsregelung, einem unabhängigen Druckeinstellwerkzeug und einer präzisen Positionierung von Belichtungseinrichtungen versehen werden. EEJA/ELECTROPLATING ENGINEERS OF JAPAN Post-S4 Photoresist Asset ist in der Lage, wiederholbare und einheitliche Photoresist Ergebnisse durch die Verwendung einer Lichtquelle mit uniformiITY Belichtungssteuerung und Scan-by-Scan-Kompensation mit Online-Kalibrierung zu erzielen. Diese Gleichmäßigkeit wird durch die Verwendung eines Fotosensors mit 30 μ m Steigungslinie in Kombination mit der Lichtquelle aufrechterhalten, um die Absorptionsrate genau zu erfassen und zu steuern. Dieses Modell wurde entwickelt, um eine breite Palette von Substraten zu handhaben, von solchen, die eine hohe Definition und Auflösung erfordern, bis hin zu solchen, die eine minimale Substratänderung erfordern. Darüber hinaus ist es in der Lage, die Mustergröße und Dichte des Photolacks leicht zu steuern, und bietet eine Reihe von Belichtungsmodi, um die spezifischen Anforderungen des Photolackprozesses zu erfüllen. EEJA Post-S4 Photoresist-Geräte können eine Vielzahl von Substraten verarbeiten, darunter Silizium, Glas und Metalle. Es gewährleistet genaue Photoresist-Ergebnisse mit minimaler Substratveränderung und Verschmutzung und ist somit eine ideale Wahl für präzise Anwendungen mit hoher Toleranz. Darüber hinaus ermöglicht die automatisierte Systemkonstruktion eine einfache Anbindung an verschiedene Fertigungsumgebungen und -systeme und bietet so den Anwendern eine effiziente Produktionseinheit.
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