Gebraucht ENTEGRIS FOUP #9392095 zu verkaufen

ENTEGRIS FOUP ist eine fortschrittliche Photolackausrüstung, die für die Herstellung von hochauflösenden integrierten Schaltungen (IC) verwendet wird. Dieses System ist ein Mehrzweckwerkzeug zur Verwaltung, Verfolgung und Inspektion des Frontends des Herstellungsprozesses. FOUP-Einheit ist eine vielseitige Lösung für Photolackanwendungen, die es Kunden ermöglicht, die für die Photolithographie verwendeten Geräte und Prozesse zu verwalten. ENTEGRIS FOUP Maschine verfügt über mehrere Funktionen, um den Photolithographie-Prozess zu optimieren, einschließlich eines fortschrittlichen Port-Technologie-Design und Verschmutzungskontrolle. Sein Port-Design ermöglicht es Benutzern, einfach Wafer zwischen Werkzeugen und Maschinen zu übertragen und bietet eine Hochgeschwindigkeitsbahnsteuerung, um Wafer zwischen Zonen genau zu bewegen. Diese Konstruktion ermöglicht auch eine fortschrittliche Kontaminationskontrolle, die gleichbleibend saubere Wafer gewährleistet. Alle Komponenten des FOUP-Tools sind speziell für Photoresist-Anwendungen konzipiert. Die Anlage umfasst eine hochgradig anpassbare Andockkassette, mehrere Transport- und Ladeschienen sowie Wafer-Tabletts. Die Dockingkassette und das Transportmodell sind sehr modular aufgebaut, sodass Anwender neue Werkzeuge problemlos in ihren Gesamtprozess integrieren können. Die Wafer-Trays bieten eine geschlossene Umgebung, die speziell für Photoresist-Anwendungen geeignet ist. ENTEGRIS FOUP umfasst auch eine leistungsfähige Wafer-Management-Software, die Anwendern die vollständige Kontrolle über ihr Photolithographiesystem bietet. Mit dieser Software können Benutzer Waferlasten verfolgen und verwalten, Aufgaben bestimmten Tools zuweisen und Transportbewegungen zwischen Werkzeugen automatisieren. Darüber hinaus bietet die Software fortschrittliche Werkzeuge für die Waferinspektion, wie Fehleranalyse und Präzisionsmessungen von Photolackschichten. Die FOUP-Einheit ist ein zuverlässiges Werkzeug, um aktuelle und zukünftige Photolithographie-Anforderungen zu erfüllen. Es verfügt über robuste Konstruktion, präzise Steuerung und erweiterte Management-Tools, um gleichbleibend hohe Qualität Produkte zu gewährleisten. Durch die Verwendung des Portdesigns der Maschine, der Kontaminationskontrollfunktionen und der Wafer-Management-Software können Kunden sicherstellen, dass ihre Photoresist-Anwendungen so effizient und effektiv wie möglich ausgeführt werden.