Gebraucht ETS / LINDGREN ETN-1100-110 #9078435 zu verkaufen

ETS/LINDGREN ETN-1100-110 Photoresist Equipment ist ein hochpräzises, hochmodernes Lithographiesystem für mehrstufige Maskenherstellung und mikroelektronische Verpackungsanwendungen. Die Einheit ist in der Lage, Muster auf Photolackschichten mit einer Auflösung von bis zu 10.000 Nanometern pro Merkmal zu belichten. Es verwendet eine herkömmliche 405-Nanometer-Laserdiode als Lichtquelle sowie eine Reihe präziser optischer Komponenten, die eine zuverlässige und konsistente Mustererzeugung ermöglichen. ETS ETN-1100-110 Maschine verfügt über zwei Masken, mit denen eine Fotomaske auf das Substrat übertragen werden kann. Das hochgenaue Design des Tools beinhaltet eine computergesteuerte Präzision scannt Asset, so dass eine vollständige Palette von Belichtungsparametern einschließlich Indexierung, Feld-Scan und Muster-Platzierung. Das Modell ermöglicht es dem Benutzer, einen beliebigen Bereich von Feldern und Formelementgrößen von 10 bis 10.000 Nanometern Durchmesser auszuwählen. Die Ausrüstung verfügt auch über eine leistungsstarke optische Element Anpassung und Ausrichtung Funktionen, die helfen, Genauigkeit und Präzision während der Maskenherstellung zu gewährleisten. LINDGREN ETN-1100-110 kann für komplexe Musterreplikation programmiert werden und ermöglicht eine Vielzahl von Anwendungen, darunter Leiterplatten, Schaltpläne und komplexe integrierte Schaltungen. Zusätzlich zu diesen Funktionen umfasst ETN-1100-110 Funktionen zur automatisierten transparenten Ausrichtung (TA), die die Genauigkeit und Wiederholbarkeit der Ausrichtung bei der Erstellung exquisiter Muster für Masken auf mehreren Ebenen gewährleisten. Das TA-System umfasst eine Ausrichtstufe und eine motorisierte Stufe, die die Photomaske vor der Belichtung genau positionieren. Um eine optimale Bedienung des Geräts zu gewährleisten, umfasst ETS/LINDGREN ETN-1100-110 ausgefeilte Prozesssteuerungsfunktionen und Diagnosen sowie modernste Umwelt- und Sicherheitsschutzmerkmale. Die Maschine umfasst ein Verriegelungswerkzeug, das das Personal daran hindert, während des Betriebs in das Werkzeug einzudringen. Darüber hinaus umfasst ETS ETN-1100-110 eine Reihe zusätzlicher Sicherheitsmerkmale, darunter eine Politik ohne offene Türen, eine Schutzbrille, Schutzkleidung und Sicherheitsalarme. Zusammenfassend ist LINDGREN ETN-1100-110 ein robustes und zuverlässiges Photoresist-Asset, das für hochpräzise Maskenherstellung und Mikroelektronik-Verpackungen entwickelt wurde. Es ist das perfekte Werkzeug für die Gestaltung einer breiten Palette von Mustern auf Photolackschichten mit einer Auflösung von bis zu 10.000 Nanometern und verfügt über leistungsstarke optische Elemente Anpassung und Ausrichtung zusammen mit automatisierten TA-Fähigkeiten. Das Modell umfasst auch eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen und anspruchsvolle Prozesssteuerungsfunktionen, so dass es sicher und effektiv eingesetzt werden kann.