Gebraucht EVG / EV GROUP 101 #293590409 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 101 Photoresist Equipment ist ein modulares, fortschrittliches Lithographiesystem zur Herstellung von Halbleiter- und anderen mikroelektronischen Komponenten. Das Gerät kombiniert Optical Proximity Correction (OPC) mit fortschrittlichen Designfunktionen, um präzise gemusterte Filme mit überlegener Bildqualität zu produzieren. Die Maschine nutzt eine Vielzahl von lithographischen Belichtungs- und Nachbelichtungsschritten, um Muster auf Folien zu erstellen und zu entwickeln. Durch den modularen Aufbau kann das Werkzeug auf die Bedürfnisse eines bestimmten Projekts zugeschnitten werden. Zu den Kernkomponenten gehören ein Optikmodul, ein Belichtungsmodul, ein Asset-Control-Modul und eine Software. Das Optikmodul besteht aus einer Präzisionsprojektionslinse, einem Belichtungsschlitz und einer Vakuumsäule. Mit diesem Modul wird das Muster auf das Belichtungsmedium projiziert. Das Belichtungsmodul verwendet eine Quecksilberbogenlampe hoher Intensität, um die Belichtungsenergie bereitzustellen. Ein Expositionsdosisregler und ein Transport unterstützen die Verabreichung der Exposition gegenüber dem Medium. Das Modellsteuermodul ist das Gehirn der Operation und steuert alle belichteten Filme unter Belichtung. Es verfügt auch über vorkonfigurierte Optionen zum Freilegen bestimmter Materialtypen. Für Musterentwurf, Simulation und Optimierung sowie Nachbelichtung stehen eine Vielzahl von Softwareanwendungen zur Verfügung. Das Photoresist Equipment ermöglicht auch die automatische Belichtung mehrerer Schichten, so dass es bei der Herstellung komplexer mikroelektronischer Komponenten verwendet werden kann. Der modulare Aufbau mit seiner hochwertigen Optik ermöglicht es dem System, hervorragende Auflösungsgrade und kritische Geometrien mit guter Gleichmäßigkeit und scharfer Topographie zu erzeugen. Das Gerät ist äußerst benutzerfreundlich konzipiert und ermöglicht niedrige Produktionskosten, hohe Erträge und die Flexibilität, sich an anspruchsvolle Technologien anzupassen. Sie ist ein entscheidender Bestandteil des Lithographieverfahrens zur Herstellung verschiedener mikroelektronischer Bauelemente. Mit ihrer hohen Genauigkeit, Flexibilität und benutzerfreundlichen Schnittstelle ist die Photoresist Machine von EVG 101 eine ausgezeichnete Wahl für jeden Hersteller von mikroelektronischen Komponenten.