Gebraucht EVG / EV GROUP 101 #293590418 zu verkaufen

Die Photoresistanlage EVG/EV GROUP 101 ist ein modernes chemisches Verarbeitungssystem zum Strukturieren und Ätzen von Metallfilmen auf Substraten. Das Gerät verwendet eine Kombination aus fortschrittlichen optischen, Elektronenstrahl- und chemischen Techniken, um Muster in einer Vielzahl von Metallfilmen und Substraten mit hoher Auflösungsfähigkeit zu erzeugen. EVG 101 Photoresist Maschine ist entworfen, um hohe Präzision beim Abscheiden von Metallfilmen auf Substraten zu erreichen. Eine Vielzahl von Metallen kann in verschiedenen Dicken abgeschieden werden, und das Werkzeug hat die Möglichkeit, die Ätzeigenschaften in Abhängigkeit von den Eigenschaften jedes einzelnen Substrats einzustellen. Beispielsweise können für ein einzelnes Substrat die optischen Eigenschaften des Photolackes für unterschiedliche Dicken der Metallabscheidung eingestellt werden, um Muster einer bestimmten Größe zu erzeugen. Das Modell EV GROUP 101 nutzt fortschrittliche Prozesse zur hochauflösenden Strukturierung. Die Elektronenstrahl-Lithographie (EBL) der Photoresistausrüstung verwendet einen fein abgestimmten Elektronenstrahl, der Muster unterschiedlicher Formen und Größen auf das Substrat zeichnen kann. Das System verwendet dann ein Photolackmaterial zur Strukturierung des Metallfilms, um ein gewünschtes Muster zu erzeugen. Photolackmaterialien werden zunächst in einer dünnen Schicht über dem Substrat aufgebracht, dann je nach den Anforderungen des gewünschten Musters unterschiedlichen Belichtungsdosen unterworfen. Einmal belichtet, wirkt das entwickelte Photolackmaterial als Maske, mit der die EBL-Einheit die Form des gewünschten Musters auf das Substrat übertragen kann. Dieser Belichtungs- und Entwicklungsvorgang erzeugt letztlich ein Muster mit einer vorgegebenen Form auf dem gewünschten Substrat. 101 Maschine bietet auch ein effektives Verfahren zum Ätzen. Nach dem Strukturieren der gewünschten Muster auf dem Substrat verwendet das Werkzeug einen Ätzprozess, um unerwünschte Teile der Folie physikalisch zu entfernen. Der Ätzprozeß wird durch die chemischen Kräfte zwischen dem Photoresistmaterial und dem Metallfilm, den Unterschied in der elektrischen Spezifität des Substrats oder das Vorhandensein verschiedener Ionen im Substrat angetrieben. Diese chemischen Kräfte wirken zusammen, um die Teile der Folie, die nicht vom Photolackmaterial bedeckt waren, zu entfernen, um das endgültige Muster zu erzeugen. EVG/EV GROUP 101 Photoresist Asset ist ein effektives Werkzeug zur Herstellung hochpräziser und komplizierter Muster in einem breiten Spektrum von Metallfolien und Substraten. Die Kombination aus fortschrittlichen optischen, Elektronenstrahl- und chemischen Techniken macht das vielseitige Modell für viele Anwendungen in der Halbleiter-, Mikroelektronik und verwandten Industrien geeignet.