Gebraucht EVG / EV GROUP 101 #293657969 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 101 ist eine Photolackausrüstung für den Einsatz in Halbleiterindustrie. Das System soll ein präzises Ätzen von dünnen Materialfilmen auf Wafer ermöglichen. Die Ätzung erfolgt mit einem Photolackmaskierverfahren. Dieser Prozess funktioniert, indem der Wafer einem Lichtmuster ausgesetzt wird. Die Lichtquelle bewirkt, dass eine Photolackbeschichtung in Bereichen aushärtet, in denen das Licht belichtet wird, während sie in anderen Bereichen weich bleibt. Dieses weiche Material kann dann leicht weggeätzt werden, um ein Muster auf dem Wafer zu erzeugen. EVG 101 Photolackeinheit enthält eine Reihe von Komponenten. Die Maschine beginnt mit einer Lichtquelle, mit der ein Lichtmuster auf den Wafer geworfen wird. Diese Lichtquelle kann ein Laser, ein hochintensives Leuchtdioden-Array (LED) oder ein anderes Gerät sein, das ein präzises Lichtmuster bereitstellen kann. Mit Hilfe einer Photomaske wird dann selektiv blockiert, daß das Licht bestimmte Bereiche des Wafers erreicht. Dadurch wird ein Muster zum Ätzen erzeugt. Der nächste Verfahrensschritt ist das Aufbringen eines Photolacks auf den Wafer. Dieser Photoresist ist ein dünner Materialfilm, der den Wafer beschichtet und vor dem Ätzprozess schützt. Es härtet in Bereichen, die dem Muster des Lichts ausgesetzt sind, während es weich oder ätzbar in Bereichen bleibt, die durch die Maske blockiert sind. Je nach Art des zu ätzenden Materials können unterschiedliche Photoresists verwendet werden. Das Photolackwerkzeug EV GROUP 101 enthält auch eine Reaktionsstation für den Photolack. Diese Station wurde entwickelt, um eine kontrollierte Umgebung für den Fotolack bereitzustellen. Es besteht aus einer Vakuumkammer, einer Temperiereinrichtung und einer UV-Lichtquelle zur Aktivierung des Fotolacks. Das Modell kommt auch mit einer Laserstation, die verwendet wird, um die Fotomaske zu erstellen. Diese Laserstation arbeitet, indem sie ein Lichtmuster auf eine Maske projiziert und dann Bereiche wegätzt, die dem Licht ausgesetzt sind. Die Photomaske kann mehrfach verwendet werden, um das gleiche Muster auf anderen Wafern zu erzeugen. Die letzte Komponente von 101 Photoresist-Geräten ist eine Ätzstation. Hier wird der Ätzvorgang durchgeführt. Der Ätzprozess erfolgt unter Verwendung einer Kombination aus einer Vakuumkammer und chemischen Behandlungen. Das Photolacksystem EVG/EV GROUP 101 ist unerlässlich, um präzise Muster auf Wafern zu erzeugen, die in der Halbleiterindustrie verwendet werden. Das Gerät ermöglicht eine genaue Musterkontrolle und hervorragende Ergebnisse. Die Maschine ist auch einfach zu bedienen und kann auch von unerfahrenem Personal bedient werden. Aus diesen Gründen ist das Photoresist-Tool EVG 101 weiterhin eine beliebte Wahl für viele Halbleiterhersteller.