Gebraucht EVG / EV GROUP 101 #293749961 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 101 ist eine vielseitige und anspruchsvolle Photolackausrüstung, die entwickelt wurde, um den Anforderungen der modernen Photolithographie gerecht zu werden. Es basiert auf einem Prinzip des Elektronenstrahls, des reaktiven Ionenätzens (auch E-Strahl genannt), um sehr dünne Schichten des Photolacks genau und genau auf verschiedenen Substraten abzuscheiden. Das System wurde entwickelt, um zuverlässige und konsistente Ätzfunktionen für eine Reihe von Anwendungen und Anforderungen bereitzustellen. EVG 101 Einheit besteht aus einer Pistole, einem Mikroskop und einem Generator für den Elektronenstrahl. Der Elektronenstrahl wird durch die an der Oberseite der Maschine angebrachte Pistole erzeugt, die eine Elektronenkanone-Stromversorgung und eine Vakuumkammer enthält. Innerhalb der Vakuumkammer werden die Elektronen manipuliert und auf die Maske fokussiert, die das Photolackmuster hält. Das Mikroskop ermöglicht eine präzise Ausrichtung und Abtastung des Elektronenstrahls. Photoresist wird durch den Elektronenstrahl auf das Substrat (in der Regel ein Wafer) aufgebracht, bevor es Entwickler- und Vernetzerchemikalien ausgesetzt wird. Diese beiden als Photoabscheidung bzw. Photoabbau bezeichneten Verfahren bilden den fertigen Photoresist, der dann auf den Wafer aufgebracht wird. Während des E-Beam-Prozesses wird die Pistole in einer bogenförmigen Bewegung manipuliert und bewegt. Diese bogenartige Bewegung wird als Vortex Motion bezeichnet und ermöglicht es dem Strahl, sowohl schnell als auch präzise in seiner Abtastung des Substrats zu sein, was präzise und saubere Ätzergebnisse ermöglicht. Der Strahl wird kontinuierlich über Computersoftware gesteuert und der gesamte Prozess sorgfältig überwacht. Das Photolackabscheidungsverfahren ermöglicht eine hochauflösende, mehrschichtige Abscheidung der Photolackschicht. Es ist auch in der Lage, verschiedene Resistschichten zu kombinieren, so dass die Herstellung von sehr dünnen (Mikroskalen) Muster. Darüber hinaus ist das Werkzeug in der Lage, Durchgangslöcher und verschiedene andere Strukturen direkt zu ätzen und zu verkleiden sowie ein hochauflösendes Muster für die funktionale Metallisierung bereitzustellen. EV GROUP 101 Asset ist eine zuverlässige und kostengünstige Plattform für fortschrittliche Photolithographie-Prozesse. Seine hochauflösenden Fähigkeiten, seine langlebige Konstruktion und sein hoch kontrollierbarer Elektronenstrahl machen ihn zu einem zuverlässigen und vielseitigen Fotolackmodell für eine Vielzahl fortschrittlicher Produktionsanforderungen.