Gebraucht EVG / EV GROUP 101 #293761358 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 101 ist eine fortschrittliche Photoresist-Verarbeitungsanlage zur präzisen Entwicklung von Mustern auf lithographischen Retikeln. Dieses Werkzeug wird hauptsächlich in der Halbleiterindustrie verwendet und kombiniert hochwertige mechanische und optische Komponenten, um hochwertige Retikel für den Einsatz in der Halbleiterproduktion zu gewährleisten. EVG 101 verwendet fortschrittliche optische Bildgebungstechnologie, um Photoresist, ein lichtempfindliches Material, abzuscheiden. Photoresist wird verwendet, um Muster auf Wafern oder Retikeln zu erstellen, die die Herstellung von Halbleiter-, LED und OLED-Bauelementen ermöglichen. Die auswählbaren Funktionen des Werkzeugs ermöglichen es, Retikle-Muster oder Bilder mit Auflösungen von bis zu 125 nm oder mehr genau zu reduzieren. Das System verfügt über einen Pre-Aligner, der zur präzisen Platzierung und Messung von Mustern verwendet wird und ein einheitliches und wiederholbares Retikelmuster ermöglicht. Darüber hinaus reduziert die erweiterte Steuereinheit die Rüstzeit und automatisiert Probleme im Zusammenhang mit der Photolackabscheidung, wodurch der gesamte Prozess schneller und zuverlässiger wird. Das Werkzeug ist mit einer hochgenauen X-Y-Stufe aufgebaut, die eine präzise Platzierung des Fotolacks gewährleistet. Die motorisierte Z-Achse sorgt für eine präzise Bewegung des Retikels und sorgt für Präzision bei kritischen Musterprozessen. Die Maschine enthält auch eine Software-Suite, mit der der Benutzer eine Vielzahl von Parametern wie Wafergröße, Anzahl der Belichtungen, Auflösung, Belichtungslänge und Intensität anpassen kann. Es hat auch eine Autofokus-Funktion mit einer Geschwindigkeit von bis zu fünf Nanometern, die die Genauigkeit der mit dem Werkzeug verarbeiteten Retellen verbessert. Das Werkzeug arbeitet mit einer Vielzahl von Materialien, wie Photoresists, positiven und negativen Resists und hochauflösenden Beschichtungen. Es ist entworfen, um mit verschiedenen Substraten zu arbeiten, die entweder flach oder gebogen sein können, und arbeitet mit einer Vielzahl von anerkannten und Standard-Retikeln. Insgesamt ist die EV GROUP 101 eine ideale Lösung zur Erzeugung komplizierter Netzmuster mit überlegener Genauigkeit und Wiederholgenauigkeit. Seine fortschrittliche optische Bildgebungstechnologie gewährleistet eine präzise Abscheidung von Photolack, während seine fortschrittliche Software es dem Benutzer ermöglicht, Parameter anzupassen und das Retikel anzupassen. Mit seinem robusten Design und seiner flexiblen Plattform erfüllt das Werkzeug die Bedürfnisse der Halbleiterindustrie jenseits seiner Peers.