Gebraucht EVG / EV GROUP 101 #9015368 zu verkaufen
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ID: 9015368
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2003
Spray coater, 8"
Air pressure: 6-10 bar / 87-145 psi
Vacuum: <100 mbar / 76 Torr abs
Nitrogen: 6-10 bar / 87-145 psi
Exhaust: 1 x 180 m^3/h, 1 x 400 m^3/h
Power: 2 kW
Fumex FA1:
230 V, 1 Phase, 60 Hz, 2.9 A
Fuse: 5 A
2003 vintage.
EVG/EV GROUP 101 ist eine Photoresistausrüstung, die ein spezialisiertes Set von Werkzeugen und Prozessen ist, die bei der Herstellung elektronischer Bauteile verwendet werden. Dieses Photoresist-System arbeitet, indem ein lichtempfindliches Material selektiv Licht- oder Elektronenstrahlung ausgesetzt wird, um eine gemusterte Materialschicht zu erzeugen. Diese Schicht kann dann verwendet werden, um eine Vielzahl von elektronischen Bauelementen zu erzeugen, typischerweise auf einem mikroskopischen Maßstab wie mit integrierten Schaltungschips. Die Photolackeinheit besteht in der Regel aus einer Reihe verschiedener Werkzeuge und Komponenten wie einem bildgebenden Werkzeug, Entwickler, Lichtquelle und einer engen Steuerung dieser Prozesse. Das bildgebende Werkzeug ermöglicht es dem Benutzer, detaillierte Muster auf der Oberfläche des lichtempfindlichen Materials zu erzeugen. Der Entwickler diffundiert dann das gewünschte Muster in das Material, und die Lichtquelle wird verwendet, um das empfindliche Material zu aktivieren, so dass eine Musterübertragung möglich ist. EVG 101 Maschine bietet speziell ein überlegenes Maß an Genauigkeit und Auflösung über ähnliche Systeme. Diese Genauigkeit und Auflösung wird durch die Verwendung eines fortschrittlichen, präzisionsoptischen Arrays erreicht, das sowohl eine hohe Auflösung als auch eine gute Fokustiefe bietet. Das EV GROUP 101-Tool verfügt auch über eine breite Palette von Softwarefunktionen, so dass der Benutzer seine eigenen Designs schnell ändern kann, um die Anforderungen der betreffenden Anwendung zu erfüllen. Dies kann erhebliche Zeiteinsparungen im Fertigungsprozess bewirken und gleichzeitig sicherstellen, dass die resultierenden Komponenten von höchster Qualität sind. 101 Photoresist Asset kann verwendet werden, um eine breite Palette von elektronischen Komponenten zu schaffen, einschließlich Mikrochips, integrierte Schaltungen, Halbleiter und mehr. Darüber hinaus ermöglicht das Modell ein gewisses Maß an Flexibilität und Anpassung, so dass der Benutzer sein Design an die spezifischen Anforderungen seiner Anwendung anpassen kann. Mit seiner überlegenen Genauigkeit, Auflösung und Softwarefunktionen ist die EVG/EV GROUP 101 Photoresist-Ausrüstung eines der fortschrittlichsten und zuverlässigsten verfügbaren Photoresist-Systeme.
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