Gebraucht EVG / EV GROUP 101 #9229818 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 101 Photoresist Equipment ist ein hochpräzises Lithographiesystem, das in der Photomasken- und Lithographie-Produktionsindustrie eingesetzt wird. Es wurde entwickelt, um präzise, gleichmäßige und wiederholbare Photolackoperationen auf dünnen Wafern durchzuführen und bietet ein ideales Werkzeug für die Herstellung von Mikrofabrikationen und Halbleiterbauelementen. EVG 101 ist eine anspruchsvolle Bildverarbeitungseinheit, die durch eine mehrachsige geteilte Achskonstruktion angetrieben wird. Die Maschine besteht aus einem Gummiteil, einem Substratverarbeitungsabschnitt und einem optischen Abbildungsabschnitt. Der Gummiteil umfasst eine Gummituchreinigungs- und Beschichtungskammer, eine mehrachsige Substratstufe, einen Strahlteiler und ein Musterausrichtwerkzeug. Der Substratverarbeitungsabschnitt umfasst eine Vorbeschichtungskammer, einen Vorbeschichtungsmonomerspeicher, eine Ladekammer, eine Weichbackstation, eine Belichtungsstation, eine Nachbackstation und eine Entwicklungsstation. Der optische Abbildungsabschnitt besteht aus zwei Laserlichtquellen, optischen Diffusoren und Retikeln. EV GROUP 101 Photoresist Asset ist in der Lage, hochpräzise Abbildungsoperationen wie Projektions-Lithographie, optische Projektion Stepper und Excimer Laser Lithographie. Das Modell verfügt über hochautomatisierte Bildgebungsprozesse wie Vorbeschichtung, Musterausrichtung, Belichtung, Nachbacken, Entwicklung und Mehrfachpass-Bildgebungsmodi. Während der Bildgebung können fortgeschrittene Inspektionsalgorithmen verwendet werden, um die Gleichmäßigkeit und Genauigkeit der Muster auf dem Substrat zu analysieren. Diese Ausrüstung kann sich auch auf sehr kleine Funktionen mit extrem feiner Auflösung konzentrieren. Darüber hinaus ist das System für die Verarbeitung von Substraten mit einer Düsengröße bis 350 mm ausgelegt. 101 ist eine robuste und zuverlässige Einheit, die für strenge Produktionsanforderungen ausgelegt ist. Es ist mit einer Vielzahl von Photolackmaterialien kompatibel und ermöglicht eine optimale Verarbeitung der Substrate für eine Vielzahl von Anwendungen. Die Maschine kann auch mit fortschrittlichen Techniken wie chemisch-mechanischer Planarisierung, Sprühbeschichtung und molekularer Selbstmontage integriert werden. Das Photoresist-Tool EVG/EV GROUP 101 bietet Anwendern außergewöhnliche Leistung und Flexibilität. Es ermöglicht die effiziente und präzise Herstellung von Präzisions-Photomasken und dünnen Wafern für eine Vielzahl von Anwendungen und ist damit eine ideale Wahl für hochpräzise Lithographieoperationen.