Gebraucht EVG / EV GROUP 101 #9283636 zu verkaufen

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ID: 9283636
Wafergröße: 4"
Weinlese: 2004
Spin coater / Developer system, 4" (2) Hot plates CD 2004 vintage.
EVG/EV GROUP 101 ist eine Photoresist-Ausrüstung für die fortschrittliche Lithographie, die die direkte Herstellung komplizierter Muster auf Halbleitermaterialien ermöglicht. Dieses System ermöglicht die Entwicklung leistungsstärkerer und kleinerer elektronischer Produkte, indem es die präzise Formgebung von Halbleitermerkmalen erleichtert. EVG 101 ist eine fortschrittliche Photoresist-Technologie, die eine steile Tonhöhenabtragung ermöglicht und beim Ätzen von Mikromustern in Halbleitermaterialien jegliche Seitenwandreste vermeidet. Es nutzt eine Kombination aus E-Strahl und optischer Belichtung und Lithographie, um eine optimale Auflösung und Struktur zu erreichen. Der E-Strahl, der von EV GROUP 101 verwendet wird, ermöglicht die Feinsteuerung der Dosis und Strukturierung mit hoher Auflösung. Darüber hinaus hat es die Fähigkeit, zweidimensionale (2D) Muster zu formen, die durch Software-Befehle definiert sind. Die Maschine verwendet auch Optik, um den Lithographieprozess zu fokussieren und sicherzustellen, dass die Muster richtig gebildet werden. Durch die Kombination von E-Strahl und optischer Belichtung für die Lithographie erzeugt 101 Muster mit überlegener Maßhaltigkeit und Präzision. Darüber hinaus kann das integrierte Sub-Resolution Assist Feature (SRAF) des Werkzeugs die Auflösung der Muster verbessern und Verjüngungswinkel eliminieren. Darüber hinaus bietet EVG/EV GROUP 101 eine effektive Lösung für eine Strukturierung mit hohem Seitenverhältnis, die die Bildung hoher Seitenverhältnisse bis auf 1: 1-Seitenverhältnisse ermöglicht. Das Asset ermöglicht auch die Kupferplattierung für kleinere Merkmalsstrukturen. Mit dem fortschrittlichen Photoresist-Modell EVG 101 lassen sich verschiedenste Produkte herstellen, von anspruchsvoller Mikroelektronik bis hin zu biomedizinischen Geräten. Es ist eine hocheffiziente und kostengünstige Lösung zur Herstellung komplexer Muster mit hoher Präzision in der Halbleiterindustrie. Insgesamt ist die EV GROUP 101 Photoresist-Ausrüstung ein leistungsstarkes Werkzeug zur Herstellung komplizierter Funktionen mit überlegener Genauigkeit und Auflösung. Dieses fortschrittliche System ermöglicht eine hochpräzise Strukturierung und Ätzung kleiner Merkmale, wodurch leistungsstärkere und kleinere elektronische Produkte hergestellt werden können.
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