Gebraucht EVG / EV GROUP 105 #9197310 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 105 ist eine Fotoresistausrüstung für den industriellen Einsatz. Es ist ein semi-automatisiertes System, das fortschrittliche optische Technologie und Materialwissenschaft verwendet, um ein zuverlässiges und hochentwickeltes Photoresist-Tool für fortschrittliche Lithographieanwendungen bereitzustellen. Diese Einheit wird häufig in der Halbleiterindustrie zur Resistverarbeitung, Substratmaskierung und Strukturierung verwendet. EVG 105 verwendet eine hochmoderne Fotomaske, um präzise und präzise Lithographiemuster zu erstellen. Die Musterqualität wird durch Verwendung eines linearen Diodenarrays und eines optimierten Lichtprojektionswinkels drastisch verbessert. Darüber hinaus ist die Maschine in der Lage, mehrere Schichten in einem einzigen Prozess zu strukturieren, was die Bearbeitungszeit und die Kosten drastisch reduziert. EV GROUP 105 nutzt ein Zwei-Platten-Werkzeug, das Flexibilität und zuverlässige Verarbeitung für eine Vielzahl von Resists ermöglicht. Die obere Platte ist halbtransparent und ermöglicht die genaue Übertragung eines Musters von der Maske auf die Resistfolie. Das Substrat wird dann auf die Bodenplatte gelegt und Druck ausgeübt, um eine gleichmäßige Verteilung und genaue Musterübertragung zu gewährleisten. Diese Anlage verfügt auch über eine externe 4x Mikroskopkamera, die eine verbesserte Ausrichtgenauigkeit während des Belichtungsprozesses ermöglicht. Das Modell ist hochgradig konfigurierbar und verfügt über eine breite Palette von Softwareoptionen für verschiedene Anforderungen. Die optische Bedruckbarkeit unterstützt verschiedene Foliendicken von 15 nm Linienbreite bis mindestens 0,25 um Merkmalsgröße. Die Ausrüstung ist auch mit einer Vielzahl von Resistmaterialien der großen Lieferanten kompatibel. Eine integrierte, benutzerfreundliche GUI ermöglicht eine einfache und intuitive Bedienung. 105 wurde entwickelt, um den Produktionsdurchsatz und die Qualität zu erhöhen und gleichzeitig die Prozesskosten zu senken. Das System ist in der Lage, hohe Wiederholbarkeit, Genauigkeit und Durchsatz, was es ideal für Industrien mit hohen Produktionsvolumen macht. Die Einheit ist auch mit Blick auf Wartung und Wartungsfreundlichkeit gebaut und ist so konzipiert, dass sie einfach gewartet werden kann, um Ausfallzeiten zu vermeiden. Insgesamt ist EVG/EV GROUP 105 eine zuverlässige und fortschrittliche Photolackmaschine. Es kombiniert innovative optische und materialwissenschaftliche Technologie für eine einfache und effiziente Lithographiemusterung mit unübertroffener Wiederholbarkeit und Durchsatz. Das Werkzeug wurde entwickelt, um die höchsten Produktionsvolumen- und Qualitätsanforderungen zu erfüllen und eine zuverlässige Lösung für die Lithographiemusterung zu bieten.