Gebraucht EVG / EV GROUP 105 #9245282 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 105 ist eine Photolackausrüstung für die Herstellung von Halbleitermasken, Verpackungen auf Waferebene und andere fortschrittliche Lithographieanwendungen. Dieses System wurde entwickelt, um eine hochgenaue und präzise Lithographie-Verarbeitung zu gewährleisten und gleichzeitig empfindliche Werkzeuge vor der Exposition gegenüber intensiven Energiequellen zu schützen. Zu den fortschrittlichen Funktionen gehören eine Autofokus-Einheit für robuste Bildgebungsleistung, eine patentierte No-Touch-Chuck-Technologie zur Verringerung der Waferbewegung für bessere Genauigkeit und verbesserten Durchsatz und ein integrierter dreidimensionaler Maskenausrichtungsscanner für verbesserte Overlay und Genauigkeit. EVG 105 Maschine kann für eine Vielzahl von Photolackprozessen konfiguriert werden, einschließlich UV-Belichtung, Photolithographie, Ätzen und Abscheidung. Es verwendet Hochleistungs-UV-Laser, wie KrF (248nm) und ArF (193nm) Quellen, sowie fortschrittliche Optik für verbesserte Prozessgenauigkeit. Das Tool enthält hochauflösende, fehlerarme Optik, um die Auflösung von Fotos zu maximieren. Zur Verbesserung der Bildklarheit ist das Asset mit ausgeklügelten Bildauflösungs-Verifikationstools ausgestattet, wie z. B. der Point-Spread-Function-Analyse. Der fortschrittliche, hochempfindliche Mustererkennungsalgorithmus des Modells zur Ausrichtung auf die Matrize minimiert zudem Fehlstellungen und ermöglicht verbesserte Ergebnisse bei anspruchsvollen Formen der Mustererkennung. Das Gerät ist weiter mit modernster Software und fortschrittlichen Automatisierungsfunktionen ausgestattet, die eine schnelle Verarbeitung, einen verbesserten Durchsatz und einen hohen Ertrag ermöglichen. Die EV GROUP 105 verfügt über ein integriertes, hochkonfigurierbares Wafer-Handling-System, das ein schnelles, präzises Be- und Entladen von Wafern sowie sichere Speicherlösungen ermöglicht. Sie beinhaltet auch einen Allzweck-Wafer-Transportwagen, um die Gemeinkosten zu senken und einen sicheren Transport von Wafern zum und vom Gerät zu gewährleisten. Die Maschine ist mit mehreren Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, darunter ein aktives Luftkühlwerkzeug, eine Halogenlampe, ein aktives Gaskühlgerät und ein Nothaltemodell (Cassavant). Alle diese Funktionen sind so konzipiert, dass ein ordnungsgemäßer Betrieb und maximale Sicherheit der Ausrüstung sowie der Proben und des Personals im Betrieb gewährleistet sind. Abschließend ist das 105-Photoresist-System eine leistungsstarke, hochwertige und genaue Lösung für die Herstellung von Halbleitermasken, Verpackungen auf Waferebene und andere fortschrittliche Lithographieanwendungen. Es bietet eine robuste Reihe von Funktionen, einschließlich fortschrittlicher Optik, Autofokus und integrierter Mustererkennungsalgorithmen, für eine verbesserte Leistung. Darüber hinaus bieten eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen die Sicherheit, die für Präzisionslithographiebetriebe erforderlich ist.