Gebraucht EVG / EV GROUP 120 #293590417 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 120 ist eine Lithographieausrüstung für die Nanolithographie und Waferbearbeitung. Es verwendet ein Photoresist-Verfahren, um nanoskalige Muster auf der Oberfläche eines Wafers zu bilden. Das System nutzt wartungsarme, leistungsarme und hocheffiziente resistbeschichtete Wafer. Die integrierte Prozesssteuereinheit und Bilderzeugungsmaschine bieten hochauflösende Bildgebung, nanoskalige Positionierung und automatisierte Verarbeitung. EVG 120 beginnt mit einem Wafer, der mit Photolack beschichtet ist. Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, und wenn es Licht bestimmter Wellenlängen und Intensitäten ausgesetzt ist, wird der Photoresist gehärtet. Durch einen Stufen- und Wiederholungs-Photoresist-Prozess werden Muster auf der Oberfläche des Wafers gebildet, während der Photoresist gehärtet wird. Der Prozess wird durch das Prozesssteuerungswerkzeug gesteuert, das die Belichtung der Laserquelle steuert, um das gewünschte Muster auf dem Wafer zu erzeugen. Die integrierte bildgebende Anlage verwendet ein hochauflösendes optisches Mikroskop und fortschrittliche bildgebende Techniken wie Rasterelektronenmikroskope und Atomkraftmikroskope, um den Wafer auf Defekte zu untersuchen und sicherzustellen, dass der Wafer genau verarbeitet wurde. Die EV GROUP 120 verfügt auch über ein automatisiertes Ausrichtungs- und Verarbeitungsmodell, das eine genaue und wiederholbare Leistung des gemusterten Photolackprozesses ermöglicht. Die automatisierte Ausrüstung reduziert auch das Risiko von menschlichem Versagen während der Photolackverarbeitung, so dass eine konsistente Verarbeitung mit minimaler Variation des Endergebnisses möglich ist. 120 enthält auch ein innovatives Sicherheitssystem, das eine Kombination von Sensoren und Hardwaregeräten verwendet, um die Umgebung zu überwachen und den Bediener zu benachrichtigen, wenn eine Verarbeitungsbedingung außerhalb der angegebenen Parameter liegt. Dies hilft, potenzielle Risiken für Maschine und Personal zu reduzieren. Abschließend ist die EVG/EV GROUP 120 eine Photoresist-Lithographieeinheit, die für die Nanolithographie und Waferbearbeitung entwickelt wurde. Es verwendet ein Photoresist-Verfahren, um nanoskalige Muster auf der Oberfläche eines Wafers zu bilden. Die integrierte Prozesssteuerungsmaschine und das bildgebende Werkzeug bieten hochauflösende Bildgebung, nanoskalige Positionierung und automatisierte Verarbeitung. Das Asset verfügt außerdem über ein automatisiertes Ausrichtungs- und Verarbeitungsmodell sowie innovative Sicherheitsausrüstungen, die dazu beitragen, potenzielle Risiken im Zusammenhang mit dem Prozess zu minimieren.