Gebraucht EVG / EV GROUP 120 #293595254 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 120 Photolackausrüstung ist ein modulares, schlüsselfertiges Lithographie-Tool, das fortschrittliche Präzisionsleistung für fortschrittliche Nanoproduktionsanwendungen bietet. Dieses Werkzeug verfügt über eine feldwechselbare Hochvakuum-Verdampfereinheit mit bis zu 12 unabhängigen Substraten und bis zu zwei parallelen optischen Elementen. Seine Modularität ermöglicht eine hochpräzise Verarbeitung und leistungsstarke Musterfunktionen. Das EVG 120-System verwendet fortschrittliche optische und physikalische Komponenten, um eine breite Palette von Lithographieoptionen bereitzustellen, einschließlich positiver und negativer Photoresist-Entwickler und hochauflösender Photomaskierung. Es ermöglicht die Verwendung einer Vielzahl von Maskenmaterialien und Substraten, einschließlich optischer Submikronmasken und einer Reihe von Substraten, einschließlich Silizium, Glas, Saphir, Quarz, Metalle und organischen Materialien. Das Gerät verwendet eine vollständige parallele Verarbeitung, die eine schnelle Substratrotation und erweiterte Schattierung ermöglicht. Darüber hinaus bietet die Maschine eine hohe Durchsatzoptimierung, die benutzerdefinierte Prozessparameter, automatisierte Positionierung und fortschrittliche Automatisierung ermöglicht. Das Tool enthält auch eine erweiterte benutzerdefinierte Kalibrierung, die präzise und wiederholbare Ergebnisse ermöglicht. Dieses Asset bietet auch erweiterte Kontrollfunktionen und Überwachungssysteme, einschließlich Datenprotokollierung, was eine verbesserte Prozesskontrolle und Qualitätssicherung ermöglicht. Die fortschrittliche, benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche der EV GROUP 120 bietet schnellen Zugriff auf Setup, Prozess-Parameter-Steuerung und Echtzeit-Überwachung. Dieses Modell ermöglicht auch die Entwicklung von Rezeptdatensätzen und die Möglichkeit, Rezepte im Gedächtnis zu speichern und abzurufen. Das Design des Geräts ermöglicht die Integration anderer Prozessmodule und bringt eine Vielzahl von Funktionen in das System. Mit seinem fortschrittlichen breiten Spektrum an Lithographie-Fähigkeiten ist 120 Photoresist-Einheit die ideale Lösung für Forschung und Entwicklung, Produktion und Prototyping Aufgaben. Diese Maschine bietet Präzisionsprozesssteuerung und Optimierung mit hohem Durchsatz und ist somit ideal für fortgeschrittene Nanoproduktionsanwendungen.