Gebraucht EVG / EV GROUP 120 #293651179 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 120 ist eine Photoresist-Anlage, die in Photolithographieverfahren für eine Vielzahl von Präzisionsanwendungen eingesetzt wird. Die Photolithographie ist ein Verfahren zum Ätzen von Mustern in ein Substrat (z. B. einen Siliziumwafer) unter Verwendung eines lichtempfindlichen Materials namens Photoresist. Das EVG 120 Photoresist-System kombiniert die Leistung fortschrittlicher Lithographieanlagen mit der Benutzerfreundlichkeit einer automatisierten Plattform, um komplexe Photolithographie-Prozesse effizient abzuwickeln. Die EV GROUP 120 Photoresist-Einheit verfügt über eine Medium Resolution Imaging-Plattform, die Batch-Größen von einem bis 200 Wafern mit einer maximalen Wafer-Abmessung von 200mm unterstützt. Die Maschine nutzt eine fortschrittliche Optik, einschließlich eines integrierten Maskenausrichters, um Muster auf Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 6 Zoll auszusetzen. Eine hochgenaue Waferausrichtung wird mit einer Submikronauflösungsstufe und Überlagerungsgenauigkeit unter 0,2 μ m erreicht. Das Werkzeug ist in der Lage, mit Laser- oder UV-lasergestützter Bühnenbewegung zu positionieren, zu strukturieren und durchzustrahlen. Es ist in der Lage, ungleichmäßig dotierte Bereiche, fortgeschrittene Techniken wie Hot-Spot-Überlagerung und den höchstmöglichen Durchsatz zu belichten. Das Photoresist Asset verfügt über ein automatisiertes Photoresist-Verarbeitungsmodul für präzise Messtechnik und Substratoberflächenqualität. Es steuert den resistbeschichteten Wafer vor und nach dem Aussetzen, um ein präzises und gleichmäßiges Resistmuster zu erzeugen. Das Modul bietet auch eine präzise Steuerung der Photolacktemperatur, Belichtungstiefe und Resistkonzentration. Das Modell enthält auch einen einstufigen Entwickler, die hohe durch-put, präzise Resist Dicke Kontrolle, präzise seitliche Auflösung und geringe Variation bieten. Die Entwickler sind so konzipiert, dass sie mit allen Photoresists kompatibel sind, mit einem dynamischen sauberen Modul, das die Endpunkterkennung durchführt und unerwünschte Resistfunktionen entfernt. Die integrierte Edge Bead Removal Equipment sorgt für saubere Substratkanten und entfernt alle verbleibenden Resist. 120 ist mit Blick auf eine geringe Umweltbelastung konzipiert und liefert ein kompaktes und effizientes System mit einem Betriebstemperaturbereich von 20 bis 55 ° C, das einen geringeren Energie- und Ressourcenverbrauch ermöglicht. All diese Eigenschaften machen EVG/EV GROUP 120 Photolackeinheit zu einer idealen Wahl für Photolithographie-Prozesse, die eine präzise, effiziente und kostengünstige Herstellung erfordern.