Gebraucht EVG / EV GROUP 150 #293617649 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 150 ist eine Photolackausrüstung für Photolithographieanwendungen. Dieses Photoresist-System ist für den Einsatz in einer Vielzahl von Branchen konzipiert, einschließlich Halbleiter, Telekommunikation und medizinische Geräteherstellung. Die Einheit besteht aus zwei Modulen, dem Prozessormodul und dem Substratverarbeitungsmodul. Das Prozessormodul wurde entwickelt, um die erforderlichen Prozessschritte für Photolackmaterialien bereitzustellen. Es enthält eine konfigurierbare integrierte Kamera, die zur Werkzeugausrichtung und zur Aufzeichnung der Ergebnisse oder Bilder des Prozesses verwendet werden kann. Das Substratverarbeitungsmodul ist für die Aufnahme, den Transport und die Handhabung einzelner Substrate konzipiert und ermöglicht einheitliche und wiederholbare Prozessschritte. Das Prozessormodul der Maschine ist in der Lage, mehrere Prozessschritte wie vorbelichtete und nachbelichtete Resist-, Entwickler-, Reinigungs- und Weichbackprozesse zu steuern. Dieses Modul bietet auch ein integriertes Vision-Tool mit Auto-Fokus, Auto-Ausrichtung und Auto-Belichtungsfunktionen. Dieses Asset ermöglicht auch die Auswertung des Resist-Profils in-situ und die Optimierung von Resist-Profilen und bildgebenden Parametern. Das Substratverarbeitungsmodul ist für den parallelen Umgang mit mehreren Substraten und Prozessen ausgelegt. Es kann je nach Anwendung als Inline- oder Batch-Prozess fungieren. Es bietet eine Reihe von Substraten wie Wafer, Paneele oder andere großflächige Strukturen und verschiedene Teile des Prozesses können individuell eingestellt oder überwacht werden. Es verfügt außerdem über einen Flexibilitätssensor zur Prüfung des Resistprofils und zur Erkennung mechanischer Defekte. Darüber hinaus bietet das Modell eine breite Palette von Sicherheitsmaßnahmen wie Sicherheitsschilde für den UV-Schutz sowie eine programmierbare Sicherheitsroutine mit mehreren Sensoren und Alarmen. Darüber hinaus enthält es eine Diagnoseroutine und eine IV-Kurven-Trace-Ausrüstung mit einer offenen Plattform, die die Integration von benutzerdefinierten Charakterisierungsroutinen ermöglicht. Abschließend bietet EVG 150 Photoresist System Funktionen, die es für den Einsatz in einer Vielzahl von industriellen Photolithographie-Anwendungen geeignet machen. Es ist eine konfigurierbare und benutzerfreundliche Photolackeinheit mit einer Reihe von Prozesssteuerungsfunktionen und Sicherheitsmaßnahmen. Die Maschine kann für eine breite Palette von Anwendungen verwendet werden, einschließlich Halbleiter, Telekommunikation und medizinische Geräteherstellung.