Gebraucht EVG / EV GROUP 150 #293820988 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 150 Photoresist System ist ein modernes Gerät entwickelt, um hochpräzise Resist Imaging und Musterung Ergebnisse bieten. Es ist ideal für Maskenbelichtungsarbeiten und Anwendungen mit direktem Schreibzugriff. Zu den Kernkomponenten des Systems gehören ein energiesparender Excimerlaser, eine motorisierte Projektionslinse, ein Vakuumfutter sowie eine Vielzahl von Software- und Hardwaremodulen. Der Laser des EVG 150 hat eine Wellenlänge von 248nm, 4.6mJ Impulsenergie und eine Pulslänge von 40ns für kurze Arbeitszyklen. Es ist in der Lage, Mikrostrukturen mit Funktionsgrößen bis zu 0,2 µm zu liefern. Außerdem liegt die Mustergenauigkeit innerhalb eines Mikrons. Das motorisierte Projektionsobjektiv bietet eine hochauflösende Bildgebungsfähigkeit über sein Sichtfeld von 30mm - 70mm. Es hat eine 16x vertikale, 10x horizontale Vergrößerung und eine numerische Apertur von 0,4. Das Objektiv verfügt über eine manuell einstellbare Pupillenfunktion zur präzisen Fokussierung. Das Vakuumfutter der EV GROUP 150 ermöglicht eine hochwertige Resistmusterung ohne Substratspannung oder mechanische Verzerrung während der Belichtung. Seine Vakuumspannfutter hält Substrate bis zu 4 "Größe und ist leicht für Substratbelastung, Positionierung und sichere Klemmung freigegeben. 150 liefert dank seiner ausgeklügelten Software- und Hardwarekomponenten die präzisesten Ergebnisse. Seine Software ermöglicht es Benutzern, Bildgebungs- und Musterwerkzeuge zu interagieren und zu steuern, während seine Hardwarekomponenten erweiterte Funktionen wie Autofokus, vor/nach dem Bildvergleich, automatisches Muster- und Belichtungsmanagement sowie Echtzeitanalysen bieten. Dadurch können die Parameter schnell angepasst und die Produktionszeiten beschleunigt werden. EVG/EV GROUP 150 Photolacksystem ist die perfekte Lösung für Anwendungen wie Halbleiterlithographie, Flachbildschirme, fortschrittliche Verpackungen und Mikrofluidik. Es bietet eine hervorragende optische Leistung, eine präzise Kontrolle über Bildgebungs- und Musterparameter sowie kürzere Verarbeitungszeiten und ist für die Erzielung höchster Qualitätsergebnisse unerlässlich.