Gebraucht EVG / EV GROUP 250AV #9400866 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 250AV ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für eine Vielzahl von Anwendungen, darunter Dünnschichtelektronik, Medizintechnik und optische Komponenten. Dieses System umfasst Resistbeschichtung, Belichtung, Entwicklung und Nachbearbeitung in einer Einheit, so dass eine gleichmäßige und wiederholbare Strukturierung ohne die Notwendigkeit mehrerer Werkzeuge und Prozesse möglich ist. EVG 250AV enthält einen einzigartigen Resist-Beschichtungsabscheidungskopf, der bis zu 1 KV Ladungsdosis liefert. Dieser Kopf beschichtet das Substrat gleichmäßig mit einem Photolackmaterial, typischerweise einer Kombination aus Photohärtung und chemisch verstärktem Photolack. Durch die Steuerung der Dosis des Photolacks auf das Substrat kann der Anwender extrem gleichmäßige und hochauflösende Muster erzielen, die für die Geräteherstellung gut geeignet sind. Die Maschine verfügt auch über eine optische Schnittstelle mit fortschrittlichen Design-Algorithmen und automatisierten Ausrichtungsfunktionen. Diese erweiterte Schnittstelle ermöglicht dem Anwender eine klar definierte Musterübertragung auf das Substrat mit überlegener Platzierungsgenauigkeit und Gleichmäßigkeit. Darüber hinaus unterstützt die optische Schnittstelle eine breite Palette von Belichtungswellenlängen, so dass die Verwendung von fortschrittlichen Materialien in der Geräteherstellung. EV GROUP 250AV umfasst ein hochpräzises Entwicklungswerkzeug, das automatisch einen Entwickler über das beschichtete Substrat abgibt. Dieser Vermögenswert gewährleistet eine einheitliche und konsistente Entwicklung und ermöglicht einen Mustertransfer mit überlegener Auflösung und Einheitlichkeit. Darüber hinaus können verschiedene Arten von Substraten ohne Änderungen an der Rezeptur oder Hardware entwickelt werden. Schließlich enthält 250AV einen Nachbearbeitungsschritt, der es dem Benutzer ermöglicht, überschüssige Fotolacke zu entfernen und die Musterübertragungsqualität zu verbessern. Diese Nachbearbeitung verwendet Gleichstrom (DC) -Asche und plasmaunterstützte Asche, die selektiv unerwünschte Rückstände von der Substratoberfläche löscht. Darüber hinaus kann der Benutzer Nachätzungen und andere Behandlungen integrieren, um den Musterübertragungsprozess abzuschließen. Abschließend bietet EVG/EV GROUP 250AV Photolackmodell dem Anwender eine automatisierte und einheitliche Lösung zur Strukturierung von Mikro- und Nanostrukturen. Diese Ausrüstung ermöglicht eine effiziente Musterübertragung mit hoher Auflösung, Gleichmäßigkeit und Genauigkeit, wodurch komplexe Geräte hergestellt werden können.