Gebraucht EVG / EV GROUP 301 #293606591 zu verkaufen

Die EVG/EV GROUP 301 ist die ideale Ausrüstung für die Photoresist-Lithographie und eine fortschrittliche Technologie für Photomaske- und Transferprozesse in der nano- und mikroelektronischen Fertigungsindustrie. Es ist für die genaue und präzise Ausrichtung von Muster- und Belichtungsprozessen auf mikroelektronischen Oberflächen ausgelegt. Dieses Photoresist-System ermöglicht eine hochauflösende, vollautomatische Lithographie mit extrem engen Funktionsgrößen von bis zu 6 µm, die in der Industrie beispiellos ist. Es ist auch extrem zuverlässig, in der Lage, mit Hochvakuum und hervorragende Funktionen Auflösung arbeiten. EVG 301 Photoresist Einheit ist mit mehreren Funktionen ausgestattet, so dass es eine Vielzahl von Wafergrößen bis zu 200 mm zu handhaben. Sie weist eine Hochleistungs-UV-Lichtquelle zur Belichtung der Wafer und einen Musterprojektor zur Projektion des Musters auf die Wafer auf. Die Maschine ist auch in der Lage, die Belichtungsdosis, Position, Fokus und Zoom zu steuern. Darüber hinaus ist es mit einer Reihe von Sensoren und Rückkopplungssystemen aufgebaut, die eine hohe Genauigkeit und Präzision für die Positionier- und Belichtungsprozesse auf den Wafern gewährleisten. Das Werkzeug ist auch mit integrierten Steuerungen für Dosissteuerung und Positionierung sowie für Messtechnik und Musterung ausgestattet. Dies ermöglicht eine vollständige Steuerung und Regelung des gesamten Lithographieprozesses von der Ausrichtung und Belichtung bis zum Druck. Darüber hinaus umfasst die Anlage einen automatischen Reinigungszyklus, der die Photomasken- und Waferoberflächen periodisch reinigt und wiederholbare und genaue Ergebnisse gewährleistet. Das Photolackmodell EV GROUP 301 ist äußerst benutzerfreundlich und bietet dem Anwender eine Reihe von Vorteilen. Es ist in der Lage, extrem hohe Auflösungen Bilder mit Merkmalsgrößen von bis zu 6 µm zu produzieren, und ist entworfen, um sowohl in kurzwelligen als auch in mittelwelligen ultravioletten Licht- und Vakuumkammerumgebungen zu arbeiten. Es liefert auch genaue Registrierungsdaten und kann zur Steuerung der Muster- und Belichtungsprozesse verwendet werden, wodurch manuelle Eingriffe entfallen und konsistente qualitativ hochwertige Ergebnisse gewährleistet werden.