Gebraucht EVG / EV GROUP 301 #293648317 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 301 Photoresist Equipment ist ein Resistverarbeitungssystem, das entwickelt wurde, um eine hochwertige, kostengünstige Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente zu gewährleisten. Das Gerät ist so konzipiert, dass es mit einer Vielzahl von Photoresist-Formulierungen kompatibel ist und Anwendern Flexibilität und Vielseitigkeit für ihre spezifischen Anwendungsanforderungen bietet. Die Kernkomponenten der Maschine sind die Resist- und Belichtungseinheiten. Die Resisteinheit ist mit einer proprietären Eindichtungs-Beschichtungsplattform und einem pneumatischen Abgabeventil und einer Nachbearbeitungs-Abschreckstation ausgestattet. Diese Kombination sorgt für einen wiederholbaren, zuverlässigen Prozess und minimiert Schichtdickenschwankungen. Das Ausgabevolumen, die Auftragsgeschwindigkeit und der Druck können variiert und für eine optimale Verarbeitung eingestellt werden. Die Belichtungseinheit umfasst ein Hochleistungs-Laserbelichtungswerkzeug mit variabler Wellenlänge. Dieser Belichtungswert ist in der Lage, Belichtungspunktgröße und Belichtungsintensität sowohl mit hoher zeitlicher Auflösung als auch mit hoher räumlicher Auflösung zu steuern. Es hat auch eine Belichtungsplatte mit einer größeren optischen Fensterfläche und einem verstellbaren optischen Stift, um eine erhöhte Belichtungsgleichförmigkeit über das gesamte Sichtfeld zu ermöglichen. EVG 301 Photoresist Model verfügt über eine Vielzahl integrierter mehrerer Prozesse und peripherer Komponenten, einschließlich Laserbild-, Würfel- und Lithographieverfahren. Das Gerät integriert Edge Timer zur automatischen Kantenerkennung und Regelung mit variablen Beleuchtungseinstellungen für präzise, wiederholbare und zuverlässige Belichtung mit einfach zu bedienender Software. Das EV GROUP 301 Photoresist System wurde mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen entwickelt und implementiert, um eine sichere und produktive Arbeitsumgebung zu gewährleisten. Diese Funktionen umfassen eine Kombination aus Hardware- und Softwaresteuerung sowie eine Vielzahl von Interlocks, Isolationsschaltungen und Sicherheiten, die in das Gerät integriert sind. Die Maschine ist auch entworfen, um Backplate Effekt zu minimieren, die Ausrichtung und Registrierung Probleme mit hochauflösenden Photomasken verursachen kann. 301 Photoresist Tool kann auch mit einer Vielzahl von spezialisierten peripheren Geräten und Komponenten, wie automatische Partikelerkennung, Flüssigkeitstauchsysteme und Spin-Coating-Ausrüstung integriert werden. Zusammenfassend ist EVG/EV GROUP 301 Photoresist Asset eine zuverlässige und hochgradig anpassbare Plattform, um kostengünstige und präzise Resist-Etching-Lösungen für Anwendungen vom Prototyping bis zur Serienfertigung zu erreichen. Die integrierten Sicherheitsfunktionen bieten Anwendern eine sichere Arbeitsumgebung für ihre Anwendungen. Seine Mehrprozess- und Peripheriekomponenten bieten Anwendern Flexibilität, Präzision und Wiederholbarkeit.