Gebraucht EVG / EV GROUP 301 #9284544 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 301 Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches, vollautomatisches Lithographiesystem, das seitliche Muster auf einer Vielzahl von Substraten erzeugt. Diese Einheit wird in verschiedenen Branchen wie Mikroelektronik, MEMS und Halbleiterherstellung eingesetzt. Zu den Hauptkomponenten dieser Maschine gehören ein Stepper/Scanner, Vakuumfutter, Waferbearbeitung und Entwicklerstation. Der Stepper/Scanner steuert die Musterübertragung vom Retikel zum Wafer. Dieser Stepper/Scanner verfügt über ein großes Sichtfeld für maximale Mustergenauigkeit und Durchsatz. Das Vakuumfutter sorgt dafür, dass der Wafer für eine hochgenaue Lithographie sicher am Werkzeug gehalten wird. Das Waferbearbeitungsmodul besteht aus einer integrierten Belichtungskammer, Kassettenlader und Vorausrichter sowie einem Mehrnasen-Wärmetauscher, der zur Aufrechterhaltung einer konstanten Temperatur verwendet wird. Die Entwicklerstation dient zur Entwicklung des Photolacks. Es enthält einen Entwicklertank, Spültanks und zwei chemische Abgabesysteme für verschiedene Photoresists. Das Entwicklermodul enthält außerdem ein UV-Modul zur Aushärtung und Inspektion des Photolacks vor der Entwicklung. Das Asset verfügt zudem über einen flexiblen, modularen Aufbau, mit dem Benutzer das Modell an ihre genauen Anwendungsanforderungen anpassen können. EVG 301 Photoresist Equipment verfügt auch über hochmoderne Optik, die eine hochauflösende Bildgebung ermöglicht. Dieses System kann Muster mit Funktionen bis zu 0,5 µm genau reproduzieren. Das Gerät ist auch sehr schnell und präzise, mit einem Durchsatz von bis zu 1000 Wafern/Std. Die Maschine ist einfach zu bedienen und sehr zuverlässig. Es ist mit einer intuitiven Benutzeroberfläche entworfen, um es einfach zu bedienen. Zusätzlich wird das Tool durch außergewöhnlichen After-Sales-Support und Kundenservice unterstützt. Das Asset wird auch mit einem fortschrittlichen Softwarepaket geliefert, mit dem Benutzer ihre eigenen Prozessrezepte entwickeln und ihre Lithographieergebnisse maximieren können. Abschließend ist EV GROUP 301 Photoresist Model eine äußerst zuverlässige und benutzerfreundliche Ausrüstung, die Anwendern dabei helfen soll, hochgenaue Lithographieergebnisse zu erzielen. Dieses System verfügt über erweiterte Optik, schnellen Durchsatz und robuste Entwicklungsunterstützung, mit der Benutzer das Gerät an ihre einzigartigen Anwendungsanforderungen anpassen können.