Gebraucht EVG / EV GROUP 8002 #9384858 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 8002 ist eine Photolackausrüstung, die für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet ist. Dieses System verfügt über eine Photolithographie-Plattform, die sich ideal für kleine bis mittlere Anwendungen eignet und über einen integrierten 6-Achsen-Roboter für den Einsatz in Fertigungsprozessen von Mikroelektronik-Einheiten verfügt. Die Maschine ist auch in der Lage, ihre Komponenten mit einer Genauigkeit von 5 Mikrometern auszurichten, was sie zu einem nützlichen Werkzeug für eine Vielzahl von Prozessen macht. Der photolithographische Aspekt von EVG 8002 besteht aus zwei Hauptkomponenten: einem Laser Interferomtre (LIF) und einer Broad Band Sourcing Alignment (BBSA). Mit dem LIF wird die Positionstoleranz mit einer Auflösung von 1 Mikrometer exakt gemessen. Dieser Aspekt ist ideal, um eine präzise Platzierung der Komponenten während der Ausrichtung und Neuausrichtung zu gewährleisten. Die BBSA hingegen ist die Hauptstrahlungsquelle, die im Photolithographieschritt verwendet wird. Es kann Licht mit Wellenlängen von 300 bis 1400 Nanometern emittieren und liefert die notwendige Energie, um lichtempfindliche Teile den gewünschten Strahlungsniveaus auszusetzen. In Bezug auf die Ausstattung, EV GROUP 8002 kommt mit einer Reihe von Kits entwickelt, um Ihre spezifische Anwendung zu erfüllen. Dazu gehören ein Wafertransportmodul, Substrathalter und Maskenplattenhalter. Darüber hinaus verfügt das Tool über eine große Auswahl an Optiken für Ihre Anwendung, die von einer Vielzahl von Linsen, Reflektoren und Kondensatoren bis hin zu optionalem Zubehör wie einem Filter mit neutraler Dichte reichen. Der Kern von 8002 ist der automatisierte 6-Achsen-Roboter, der eine präzise und wiederholbare Positionierung von Maskenplatte und Wafer ermöglicht. Dieser Roboter kann auch automatisch die Bewegung der Maskenplatte und des Wafers verfolgen und die Positionstoleranz und Belichtungszeiten relativ zum Substrathalter verfolgen, was eine überlegene Platzierungsgenauigkeit und minimale Drift ermöglicht. Frühere Belichtungseinstellungen können auch für spätere Produktionschargen zurückgewonnen werden, um sicherzustellen, dass der Prozess im Laufe der Zeit konsistent ist. Leistungsmäßig hat die EVG/EV GROUP 8002 eine Mindestschrittweite von 0,1 Mikrometer und eine Wiederholbarkeit von 5 Mikrometer, unabhängig von den Temperaturschwankungen. Dieses Maß an Genauigkeit ermöglicht eine ausgezeichnete Präzision und Wiederholbarkeit, was es zu einer großartigen Lösung für Anwendungen mit enger Toleranz macht. Die Anlage arbeitet auch mit einer Zykluszeit von 15 Sekunden und einem maximalen Durchsatz von 10 Teilen pro Stunde, was sie ideal für kleine bis mittlere Produktionsanforderungen macht. Zusammenfassend ist EVG 8002 ein leistungsstarkes Photolithographiemodell, das eine präzise Ausrichtung und Belichtung von Teilen mit einer Auflösung von 5 Mikrometern ermöglicht. Der integrierte 6-Achsen-Roboter ermöglicht es, die Bewegung von Maskenplatte und Wafer genau zu verfolgen, während die große Auswahl an Optik kundenspezifische Kompatibilität bietet. Diese Kombination von Funktionen bietet EVG die für eine Reihe von Anwendungen erforderliche Flexibilität und ist somit ein großartiges Werkzeug für die meisten Fertigungsprozesse.