Gebraucht FISA CC20/40 #9395454 zu verkaufen

FISA CC20/40 ist eine auf Kobalt basierende Photoresistanlage, die speziell für den Einsatz in Lithographie- und Trockenfilmprozessen entwickelt wurde. Dieses Photoresist-System ermöglicht eine sehr hohe Auflösung und verbesserte Auflösungseigenschaften im Vergleich zu anderen Photoresists auf dem Markt. Die hohe Auflösung der Photolackeinheit ist ein Ergebnis ihrer einzigartigen Eigenschaften. Herzstück der FISA CC20/40 Photolackmaschine ist die strahlungsempfindliche Verbindung auf Kobaltbasis, die für Lichtwellen zwischen 270 und 460 Nanometern empfindlich ist. Dieser Wellenlängenbereich ermöglicht genauere, hochauflösende Lithographieverfahren. Die Verbindung auf Kobaltbasis ermöglicht zudem eine verbesserte Photostabilität und schnellere Entwicklungszeiten als andere Photolacksysteme. Das Photoresist-Tool ist auch mit einem flüssigen Entwickler formuliert, der eine Kombination von Säuren und Komplexbildnern enthält, die speziell entwickelt wurden, um die Ressourcenentwicklung und -leistung zu verbessern. Dieser Entwickler wurde entwickelt, um den belichteten Photolack leichter vom Substrat zu entfernen und so Muster höherer Auflösung zu erzeugen. Der Entwickler hilft auch, Umwelt- und Gesundheitsgefahren zu reduzieren, da es ungiftig und wasserbasiert ist. Die Photoresist-Anlage ist auch mit einem Tieftemperaturhärtungsverfahren ausgelegt, das es ermöglicht, stärkere Filme ohne die teuren Ätz- und Musterübertragungsschritte zu erzeugen, die für einige Photoresists erforderlich sind. Die niedrige Temperaturhärtung hat auch den zusätzlichen Vorteil, dass die Empfindlichkeit des Photolackmodells gegenüber thermischem Schock reduziert wird, und ermöglicht eine sehr präzise Musterübertragung in das Substrat. Schließlich ist die Photoresist-Anlage mit einer optimierten Reflow-Kurve ausgelegt, ein wichtiges Merkmal für erfolgreiche Lithographie-Prozesse. Die Reflow-Kurve ist auf die spezifische Anwendung zugeschnitten und sorgt für konsistente Linienkanten- und Mustertreue. Durch die Kombination der einzigartigen Eigenschaften seiner strahlungsempfindlichen Verbindung auf Kobaltbasis, des optimierten Flüssigkeitsentwicklers, des Niedertemperaturhärtungsprozesses und der raffinierten Reflow-Kurve bietet das FISA CC20/40 Photoresist-System im Vergleich zu anderen Photoresist-Systemen auf dem Markt eine überlegene Auflösung, höhere Photostabilität, geringere Kosten. Damit ist FISA CC20/40 Photolackeinheit eine gute Wahl für den Einsatz in Lithographie- und Trockenfilmprozessen.