Gebraucht FSI EXCALIBUR #293759461 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 293759461
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
Batch wafer processing system
1995 vintage.
FSI EXCALIBUR ist ein Photoresist-Gerät, das für die Herstellung von Hochleistungs-integrierten Schaltungen entwickelt wurde. Dieses System verfügt über eine ausgezeichnete Mikroauflösung, Kontrolle und Konsistenz. Es enthält eine ausgeklügelte Software, die Dünnfilmbeschichtung, Fotografie, Auflösung und Belichtungsleistung steuern kann. Dieses Gerät ist ideal für die Herstellung von exklusiven leistungsintegrierten Schaltungen, da es die Herstellung von höherauflösenden, kleineren und effizienteren Schaltungen ermöglicht. EXCALIBUR verwendet ein photolithographisches Verfahren, das als Sprühbeschichtungsverfahren bekannt ist. Mit diesem Verfahren wird eine Dünnfilmschicht auf ein Substrat übertragen, das aus einer Dünnfilmschicht, einer antireflektiven Beschichtung und einem positiven Photoresist besteht. Diese Dünnfilmschicht besteht aus einer Mischung aus Kieselsäure, Titandioxid und Organik, die eine stabile, optisch transparente Beschichtung auf dem Substrat erzeugen. Die antireflektierende Beschichtung optimiert den dünnen Film, ideal für hochauflösende Bildgebung und Schutz vor Kontamination oder Umwelteinflüssen. Die letzte Schicht ist der Photolack, der als „Maske“ für die Dünnfilmschicht wirkt. Dieser Photoresist schützt den dünnen Film vor UV-Licht, das bei der Lithographie verwendet wird. Der bildgebende Prozess beginnt mit einem 635nm oder 355nm Laser im Projektor. Dieser Laser projiziert die Geometrien, die auf die Dünnfilmschicht aufgebracht werden müssen. Diese Geometrien werden dann dem Licht ausgesetzt und beginnen mit dem Photolack zu reagieren. Bei der Weiterentwicklung werden die unbelichteten Bereiche des Photolacks transparent, während der belichtete Resist undurchsichtig bleibt. Dies wird als positive Resistentwicklung bezeichnet. Der nächste Schritt ist der Ätzprozess, bei dem das gewünschte Muster in das Substrat geätzt wird. Dazu gehört, das Substrat zu würfeln, eine Ätzmaske aufzubringen und in ein chemisches Bad einzutauchen. Dieser Ätzvorgang erfordert Präzision und Genauigkeit, da der Photolack durch die Laserbelichtung reduziert wurde. Nach dem Ätzen muss die Dünnfilmschicht durch die Einwirkung von Ätzmitteln entfernt werden. Dies geschieht durch einen Prozess namens Aschen oder Abbrennen der Dünnfilmschicht. Der Aschvorgang erfolgt mit einem softwaregesteuerten Ofen. Dieser Ofen läuft bei einer eingestellten Temperatur, wodurch eine Wolke aus dünnen Filmgasen entsteht. Der Aschevorgang ist abgeschlossen, wenn die Dünnfilmschicht auf dem Substrat nicht mehr sichtbar ist. Schließlich findet ein Reinigungsvorgang zur Entfernung des restlichen Photolacks vom Substrat statt. Dabei wird typischerweise eine alkalische Lösung oder eine Kombination chemischer und mechanischer Reinigungstechniken verwendet. Nachdem das Substrat gereinigt und getrocknet ist, ist der integrierte Schaltkreis bereit für seine Endkontrolle. FSI EXCALIBUR ist eine ideale Maschine für die Produktion von exklusiven leistungsintegrierten Schaltungen. Die präzise und konsistente Photolithographie sorgt für eine hohe Auflösung der Geometrien in den Chips. In Kombination mit seinen antireflektiven Beschichtungs-, Photoresist-, Asche- und Reinigungsprozessen ist EXCALIBUR eine hervorragende Lösung für die Herstellung von Hochleistungs-integrierten Schaltungen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor