Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON 915597-005 #293700892 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON 915597-005 ist ein Photolackverarbeitungssystem, das für die fortschrittlichen lithographischen Musterverfahren entwickelt wurde. Zu den Komponenten der Einheit gehören ein Spin-Prozessor, eine Abbildungskammer und eine Photoresist-Abgabemaschine. Der Spin-Prozessor ist für die gleichmäßige Beschichtung des Substrats mit einem Photolackmaterial verantwortlich. Der Spin-Prozessor verwendet direkte Antriebstechnologie, die eine präzise Steuerung der Geschwindigkeit des Prozessors ermöglicht. Der Spin-Prozessor gibt auch die für das Substrat benötigte Menge an Photolackmaterial aus und kann für unterschiedliche Prozessanwendungen eingestellt werden. Die Abbildungskammer ist dafür verantwortlich, eine kontrollierte Umgebung für die Belichtung des Substrats zu schaffen. Diese Kammer ist mit einem Bewegungssteuerungswerkzeug ausgestattet, das die Bühnenbewegung für die Bildauflösung feinjustiert. Die Kammer weist außerdem eine eingebaute Blitzlichtquelle zur Beleuchtung des Substrats auf. Der Photoresist Delivery Asset ist verantwortlich für die Bereitstellung einer konsistenten Versorgung des Spin-Prozessors mit Photoresist-Material. Dieses Modell verfügt über eine Ausrüstung von Filtern zur Reinigung des Photolackmaterials und zur Vermeidung von Verunreinigungen. Das System FSI 915597-005 wurde entwickelt, um hochpräzise Photoresist-Abscheidungsprozesse bereitzustellen. Durch die Verwendung seiner direkten Antriebstechnik und Bewegungssteuereinheit kann es Abdeckung von Substraten mit geringer Prozessvariation bereitstellen. Diese Maschine ist auch in der Lage, die durch ungleichmäßige Schichtdicke verursachte Liniengrößenvariation zu reduzieren. Zusätzlich kann die Blitzlichtquelle für eine gleichmäßige Ausleuchtung der Substrate für höhere Auflösung sorgen. Insgesamt ist das TEL 915597-005-Tool eine fortschrittliche Photolackverarbeitung, die hochpräzise Photolackabscheidungsprozesse bietet. Der Spin-Prozessor, die Abbildungskammer und das Photoresist-Liefermodell dieses Geräts arbeiten zusammen, um eine genaue und konsistente Substratabdeckung zu gewährleisten. Dieses System ist in der Lage, die Liniengrößenvariation zu reduzieren, und ist in der Lage, eine gleichmäßige Belichtung von Substraten für eine höhere Auflösung bereitzustellen.