Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON 915597-005 #9360975 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON 915597-005 Photoresist ist ein Photolithographiesystem, das die Herstellung sehr komplexer Mikrostrukturen auf Halbleiterscheiben und anderen Substraten ermöglicht. Das Gerät wurde entwickelt, um eine schnelle, präzise und wiederholbare Abbildung von Mustern in einer Vielzahl von Maskengrößen zu ermöglichen. Es bietet Belichtungsgeschwindigkeiten von bis zu fünf Bildern pro Sekunde, die höchste Auflösung jeder verfügbaren Photolithographie-Maschine und eine präzise Belichtungssteuerung. Das Werkzeug enthält eine 4-Zoll-Schrittfotomaske, die Muster für eine genaue und wiederholbare Abbildung auf Substraten mit einer Größe von bis zu 6 Zoll bereitstellt. Es verfügt über einen hochempfindlichen Film, der in der Lage ist, die Muster aus der Maske genau zu erfassen, was zu verbesserten Belichtungsergebnissen und stark wiederholbaren Mustern führt. Das Asset verfügt außerdem über eine integrierte Filmzuführung und ein Verarbeitungsmodell, das eine einfache Einrichtung und Bereinigung zwischen den Risikopositionen ermöglicht. Die Ausrüstung enthält auch eine gründliche Reihe von bildgebenden Werkzeugen, um die Leistung des Systems anzupassen. Diese Werkzeuge umfassen automatische Verschlusssteuerung, automatische Ausrichtung und Fokussteuerung und programmierbare Wafer-Handler-Software. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine Belichtungssteuerungssoftware, mit der Anwender die Belichtungsparameter einfach anpassen und anpassen und die Ergebnisse während der Bildgebung überwachen können. Schließlich enthält die Maschine eine Reihe von Abbildungsoptiken, die eine verbesserte Abbildung von Substraten verschiedener Größen und Konfigurationen ermöglichen. Dazu gehören Linsen mit variabler Brennweite, abhängig von der Größe des Substrats und der Auflösung des Musters. Die bildgebende Optik kann auch angepasst werden, um spezielle Effekte für komplexere Musterung bereitzustellen, wie variable Tiefenbildgebung, Halbtonbildgebung und höhere Kontrastbildgebung. Insgesamt ist das Fotolackwerkzeug FSI 915597-005 eine ausgezeichnete Wahl für hochauflösende, wiederholbare und vielseitige Bildgebung und Verarbeitung von Halbleiterscheiben und anderen Substraten. Seine hochpräzise Belichtungssteuerung, bildgebende Werkzeuge und hochmoderne Optik ermöglichen Flexibilität und Anpassung bei der Herstellung komplexer Mikrostrukturen.