Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON 915597-005 #9408657 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON 915597-005 ist eine Photoresist-Ausrüstung für Fotomasken-Musteranwendungen. Es besteht aus einem Stepper/Aligner Modell 915597 und einem Exposure Unit Modell 915596. Der Stepper/Aligner ist ein hochgenaues, schnelles Mustersystem für feinlinienförmige, hochdichte 3-dimensionale Bildgebung auf großformatigen Photomasken bis zu 12,7 x 12,7 Zoll (320mm x 320mm). Es verfügt über eine große Feldgröße mit X/Y-Koordinaten bis zu + -9,8 Zoll und hat eine maximale Geschwindigkeit von 4000 x 4000um/sec. Die Belichtungseinheit des Geräts bietet bis zu 3 EV und ermöglicht eine genaue Belichtung der Photomaske durch lineare, geteilte und springende Mehrschichtmuster. Es bietet fortschrittliche Leistung für die Inline-Reticle-Verarbeitung mit einer 6-Zoll-DUV-Lampe, verbesserte Kalibrier- und Messfunktionen und erweiterte Musterprüfung für präzise Musterübertragungsgenauigkeit. Diese Maschine ist mit vollautomatischen Nass- und Trockenprozessen in Kombination mit Hochgeschwindigkeits-Scanning und fortschrittlichen Softwarefunktionen für mehr Durchsatz, Flexibilität und Benutzerfreundlichkeit ausgestattet. Dieses Werkzeug eignet sich besonders für die Produktionsumgebung und bietet Prozesskontrolle mit enger Gleichmäßigkeit und präziser Überlagerungsgenauigkeit. Es ist auch in der Lage, simultane Belichtung von 8-Zoll-Photomasken durchzuführen. Die Kombination aus Stepper/Aligner und Exposure Unit bietet eine verbesserte Leistung für die Bildgebung mit engen Linienbreiten und minimalen kritischen Abmessungen. Dieses Gerät ist auch mit einer Spulenlinse ausgestattet, die auf dem Stepper/Aligner montiert ist und eine hohe numerische Apertur (NA) -Bildgebung und geringe Verzerrung bietet. Insgesamt wurde das Photoresist-Modell FSI 915597-005 entwickelt, um branchenführende Genauigkeit, Auflösung, Durchsatz und Wiederholbarkeit für den Fotomasken-Musterungsprozess bereitzustellen. Es bietet eine wiederholbare, kostengünstige und effiziente Bildgebung während des gesamten Produktionsprozesses. Diese Ausrüstung wurde entwickelt, um die Anforderungen einer breiten Palette von Kunden zu erfüllen, einschließlich Halbleiter, Mikroelektronik, Maskenproduktion und Forschung und Entwicklung Labors.